纳米Cu性能表征.docx

纳米Cu结构表征分析 一、扫描电镜(SEM)形貌分析下图为纳米铜粉的SEM扫描结果:图1.1纳米铜粉的SEM图(放大1万倍)图1.2纳米铜粉的SEM图(放大2万倍)图1.3纳米铜粉的SEM图(放大5万倍)图1.4纳米铜粉的SEM图(放大5万倍)10号5号4号2号3号9号8号1号6号100nm7号图1.5纳米铜粉的SEM图(放大5万倍)由图1可以看出，制备的纳米铜粉样品为方形晶粒，形状不规则，尺寸大多在几十纳米到一百纳米之间。然后在图1.5中随机选取了10个晶粒，其尺寸大概大小如下表：晶粒编号长/nm宽/nm175202100303505049020540306905078020810040911020106050二、X射线光谱(XRD)分析下图为纳米铜粉的XRD测试结果：Cu(111)图2纳纳米铜粉样品的XRD图从图2可以看出，铜的(111)(200)(220)晶面衍射特征峰显示出样品金属铜的晶形为面心立方。XRD图上有氧化铜和氧化亚铜的峰出现，表明样品铜粉有部分被氧化为氧化铜和氧化亚铜（表面钝化）。三、X射线光电子能谱(XPS)分析下图为纳米铜粉的XPS测试结果：C元素O元素Cu元素的俄歇电位Cu元素部分图3.1 纳米铜粉XPS图图3.2铜元素部分XPS图由图3.1可以看出，样品中除了铜元素的峰位还有氧元素的峰位和C1s峰位存在，其中C1s峰位一般认为是测试时引入的杂质（导电胶）