PS胶晶模板制备及组装SnO,2多孔膜的研究.pdfVIP

中文摘要 本文采用浸渍一提拉法组装了PS胶体晶阵列，并以此为模板制备了Sn02有序 多孔薄膜。分析了胶体晶体的形成机理，讨论了采用浸渍一提拉法组装模板和灌 注溶胶的特点，研究了工艺参数对模板组装质量、模板微球层数和多孔薄膜形貌 的影响，对PS模板结构和胶晶的光学性能以及Sn02薄膜的晶体结构和光学性能 进行了分析与表征。 Ps微球在固一液界面的弯月面处进行阵列组装的过程中，吸附力、浮力和毛 细管力使微球成核并生长成为密排的胶体晶体。由于弯月区上沿的生长边的快速 移动，浸渍一提拉法增大了湿阵列的面积，使溶剂蒸发和乳液流动得到了增强。 提高乳液中PS的体积分数可以提高通过乳液流动进行迁移的有效Ps微球 的数量。提拉过程中的乳液温度直接影响溶剂的蒸发，进而影响微球的移动， 较高的温度导致较快的胶晶生长速度。适当升高温度使PS球有更多的动能找到 自由能较低的点阵位置，提高了胶体晶体阵列的质量。较大的提拉速度增强了生 长边界上方湿阵列区域的蒸发面积，以及微球向弯月区域的输运，使晶体生长加 速。上述各种工艺参数应该配合微球粒径进行选择，以得到完美的胶体晶体。干 燥过程中，为了减小内应力对晶体结构的破坏作用，当组装温度为50℃时适宜 的干燥方式为20℃空气中水平恒温干燥。 使用浸渍一提拉法得到的胶晶薄膜，由于fce(111)面的布拉格衍射作用在白 谱的光学带隙中心位置分别为390nm、678nm和800hm。 采用浸渍一提拉法在PS胶晶微球的间隙内填充溶胶时，由于毛细管力和重力 的平衡作用，易于实现前驱体溶胶的有效填充，避免了采用垂直灌注法时难以控 制所需前驱体量的问题。 溶胶浓度是影响多孔结构形成的重要因素，要得到蜂窝状多孔结构，较适宜 的溶胶浓度为0．2．0．4 mol／L。溶胶浓度的选择应与模板球径协同考虑，以得到规 则排列的多孑L结构。Ps球直径和溶胶浓度都会影响多孔结构的孔径。 填充锡溶胶的PS胶晶阵列模板经过500。C热处理lh后，除去PS并得到了四 的透射率达到了80％以上，禁带宽度E为3．68eV。 关键词：Ps胶体晶体：模板组装；二氧化锡；多孔薄膜；溶胶．凝胶；浸渍．提拉 ABSTRACT colloid wasassembled Polystyrene(PS)spherescrystal array bydip-drawing methodandordered thinfilmswere Sn02macroporous fabricated thePS byusing colloid as mechanismofcolloid Was crystaltemplate．Theforming crystaldiscussed； the of methodtoassemblePS andfiU sol advantagedip—drawing templateSn02Was influenceof onthe number exhibited；the of fabricatingparametersarrayquality,the and of filmsWas the morphology structureand spheres porous stu