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纳米Ti膜形成过程的扫描隧道显微镜观察-金属学报

第 37卷 第 2期 仓 扇 学 衄 ll37 NO2 2001年 2月 ACTA METALLURGIeA SINIeA Februarv200 1 纳米 Ti膜形成过程的扫描隧道显微镜观察 谢天生 - 杜 昊 ) 孟祥敏 、 孙 超 。) 闻立时。 1】中国科学院金属研究所固体原于像开放研究实验室 沈阳 110010 2)中国科学院金属研究所 沈阳 110016 摘 要 用醯控溅射方法在聚台物薄膜基体上制备出 同厚度的纳米Ti膜 扫描隧道显徽镜 (STM】的观察结果表明 初期膜 是 由直径小于 2nlH 的形棱粒子和粒子 团聚体组戚 粒子沉租呈岛状生长形成蚋米晶粒结构 随薄膜厚度增 Ⅱ 平均晶粒尺寸增 加 形成大尺寸晶粒的连续薄膜 分析和讨论丁薄膜生长过程的结构特征及摊射条件对薄膜结构的影响 关键词 磁控溅射,纳米Ti膜.扫描隧道显微镜 (STM) 中圉法分类号 04841 文献标识码 A 文章编号2001)02—0ll3—05 SCANNING TUNNELING M ICR0SC0PY oBSERVAT10N T0 F0RM ATIoN PR0CEDURE oF NAN0一TiFILM xIE Tianshen9a) DU Hq6 MENG Xiangminu SUN Chao2) w EN Lism2) . . 1)LaboratoryofAtomicImagingofSolidsInstButeofMetalResearch.TheChineseAcademySciences.Shenyangl10016 2)InstituteofMetalResearch.TheChin~eAcademySciences.Shenyangl10016 Correspondent:xlETiansheng.associateprofessor,乳l:(024)2384353155~51. E-mail:tsxie@ m ac.cn Manuscriptreceived2000—O9—28 ABSTRACT Nano—Tifilmswith difierentthicknessesweredeposited onpolymerfilm substrate bymagnetron sputtering.Scanning tunnelingmicroscopy fSTM )wasused tostudy thestructural characteristic Theresultsshowthatthefilm formedattheinitialstageiScomposedofnucleiparticles withdiameterleNsthan2nm ands0meparticleaccumulationsW ithincreasingthesputteringtimethe depos~edparticlesbecomeisland-likeandthenform Tifilm consistedofnanoparticles.Theaverage grain sizeincreaseswith increasing thicknessoffilm The influencesofsubstrateand magnetron sputteringconditionsonthefilm structurewerediscussed KEY W ORDS magnetronsputtering,nanoTifilm,scanningtunnelingmicroscopy(STM1 纳米金属薄膜在尖端微电子器件的制造和组装 及 征等都有直接关系 扫描隧道显微镜 (STM1具有纳米乃 空间领域有着重要的作用.它既可作为低维的纳米薄膜功

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