IVB族过渡金属氮化物弹性与光学性质研究-物理学报.PDFVIP

物理学报 Acta Phys. Sin. Vol. 62, No. 8 (2013) 087102 IVB 族过渡金属氮化物弹性与光学性质研究* 王瑨 李春梅 敖靖 李凤 陈志谦† ( 西南大学材料科学与工程学院, 重庆 400715 ) ( 2012年11月14 日收到; 2012年12月10 日收到修改稿) 基于密度泛函理论平面波方法研究了IVB 族过渡金属氮化物TiN, ZrN, HfN 的电子结构、弹性性质和光学性 质. 研究表明, IVB 族过渡金属氮化物晶格的电子结构分别体现了共价性、离子性和金属性, 且基态下体系呈金属 性. 各晶格在坐标基矢方向上的杨氏模量的数值与体对角线方向上的差距明显, 体现出典型的弹性性质各向异性, 这导致了实验研究在制备其薄膜时不可避免地产生晶格畸变与微裂纹. 伴随着态密度中赝隙的红移, TiN, ZrN, HfN 的金属性依次增强, 使得材料在力学性能方面脆性减弱, 单晶的各向异性程度提升, 以及光学性质方面电子跃迁机 理由带内跃迁到带间跃迁转变所需入射光子能量的蓝移和光谱选择性能的下降. 因此, 通过降低IVB 族过渡金属氮 化物中自由电子的组分以加强材料的共价性, 有利于提高材料弹性性质的各向同性, 改善材料的光谱选择性能. 关键词: 第一性原理, 弹性性质, 光学性质 PACS: 71.15.Mb, 71.20.b, 62.20.D, 78.20.Ci DOI: 10.7498/aps.62.087102 者对HfN 材料硬度的报道则多集中在 16—60 GPa 1 引言 之间 25 . 光学性质的研究同样受到了上述因素 的影响, Valkonen6 等制备了5—80 nm 厚度的TiN IVB 族过渡金属氮化物TiN, ZrN, HfN 是一组 涂层, 并研究了厚度对TiN 涂层光学常量的影响. 具有特殊性能的陶瓷材料, 既继承了过渡金属优异 7 8 Karlsson 与Strømme 等 分别通过化学气相沉 的导电导热性能, 又具有高熔点、高硬度和耐腐蚀 积法和直流反应磁控溅射法制备并研究了HfN 的 性能等共价化合物特性, 其光学性能更兼具金属与 光学常数, 实验结果存在明显差异. 通过分析上述 介电性, 因此引起人们长期而广泛的关注18 . 在 文献得知, 材料在制备薄膜的沉积过程中所产生的 工业应用领域, IVB 族过渡金属氮化物多作为切割 内应力将影响晶格结构和排布, 引发各向异性的晶 材料、超耐磨材料、太阳能选择性吸收材料等, 并 格畸变, 进而导致了材料各物理性能测量数据的较 在基础研究和技术研究中占有重要的地位. 围绕其 展开的研究主要集中在力学15 和光学领域68 . 大差异. 另外到目前为止, 对于IVB 族过渡金属氮 化物在力学方面所体现的弹性各向异性和光学方 在力学研究领域, 弹性模量一直是科学家关 注的焦点. IVB 族过渡金属氮化物具有优异的杨 面的光谱选择性能的研究结果仍存在不确定性, 缺 氏模量和较高的硬度. 但由于TiN, ZrN, HfN 的熔 乏系统的研究. 因此, 分