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使用低电阻金属铝制造薄膜晶体管阵列信号电极-液晶与显示
第 卷 第 期 液 晶 与 显 示 ,
24 4 Vol.24No.4
年 月 ,
2009 8 ChineseJournalofLiuidCrstalsandDislas Au.2009
q y p y g
文章编号: ( )
10072780200904053304
使用低电阻金属铝制造薄膜晶体管阵列信号电极
刘 翔,陈 旭,谢振宇,高浩然,王 威
(北京京东方光电科技有限公司,北京 , : )
100176 Emailskea le 126.com
ypp @
摘 要:金属电阻是影响大尺寸TFTLCD信号延迟的关键因素。研究了利用低电阻率金属
Al制作大尺寸 TFT阵列信号线的生产工艺,发现在完成有源半导体层刻蚀后残留的少量
会在后续工艺中对金属 造成腐蚀,严重地影响了产品的性能。通过优化刻蚀工艺,采
Cl Al
2
用活性更高的 去除刻蚀有源半导体层时残留的少量 ,避免了金属 腐蚀的发生。
SF Cl Al
6 2
关 键 词:薄膜晶体管;铝;腐蚀;刻蚀
中图分类号: + 文献标识码:
TN321.5 B
热稳定好的金属材料,如 、 、 等,制作
MoTaCr
1 引 言
TFT阵列的扫描电极和信号电极,但这些金属的
液晶显示器具有驱动电压低、功耗小、体积轻 电阻率都相对较高。在大尺寸的薄膜晶体管阵列
薄、无 射线辐射、无闪烁、清晰度高、易于实现 制造中,由于电极的长度大幅增加,高电阻率的金
X
[,]
12
大屏幕全色彩显示等优良的性能 ,近年来获 属已不能满足设计的需要。TFTLCD信号的延
得了飞速的发展。随着显示尺寸和分辨率的不断 迟主要由 决定,其中 为信号线的电阻,
犜=犚犆 犚
提高,以 aSiTFTLCD面板制造而成的液晶电 犆为相关
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