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2018-03-01 发布于河南
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Rena设备培训报告人：席累 2010.09.25 1.RENA清洗工序的目的： �去除硅片表面的机械损伤层（来自硅棒切割的物理损伤） �清除表面油污（利用HF）和金属杂质（利用HCl） �形成起伏不平的绒面，增加对太阳光的吸收，增加PN结面 Isc 积，提高短路电流（Isc），最终提高电池光电转换效率。 IIsscc 2.设备构造清洗工艺步骤：制绒→碱洗 →酸洗→吹干 RENA Intex清洗设备的主体分为以下八个槽，此外还有滚轮、排风 RENA Intex RREENNAA IInntteexx 系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。 Alkaline Alkaline AAllkkaalliinnee Alkaline Alkaline Etch bath Dryer1 Rinse1 AAllkkaalliinnee Etch bath Dryer1 Rinse1 EEttcchh bbaatthh DDrryyeerr11 RRiinnssee11 Etch bath Dryer1 Rinse1 Etch bath Dryer1 Rinse1 EEttcchh bbaatthh DDrryyeerr11 RRiinnssee11 Rinse Rinse RRiinnssee Rinse Rinse RRiinnssee Acidic