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第12章 光纤机械量传感器 第12章 光纤机械量传感器 光纤机械量传感器可以分为传光型（非功能型）和传感型（功能型）两类，其调制方式可以是光强调制、相位调制、频率调制及偏振调制等。 传光型光纤传感器的调制区在光纤外，外界信号通过外加调制装置对进入光纤中的光波实施调制，发射光纤与接收光纤仅起到传输光波的作用； 传感型光纤传感器的调制区位于光纤内，外界信号通过直接改变光纤的某种传输特性参量对光波实施调制。 第12章 光纤机械量传感器 第12章 光纤机械量传感器 12.1 光纤位移传感器 光纤位移传感器主要采用光强调制及相位调制技术。 12.1.1 光强调制型光纤位移传感器 光强调制的基本原理是利用外界信号（被测量）的扰动改变光纤中光（宽谱光或特定波长的光）的强度（即调制），再通过测量输出光强的变化（解调）实现对外界信号的测量。 常用的光强调制方式主要有以下几种。 1．透射式光纤位移传感器 12.1.1 光强调制型光纤位移传感器 如图12.1(a)所示为一种透射式光纤位移传感器示意图。通常发射光纤固定不动，接收光纤的入射端受外界信号控制，相对发射光纤的出射端产生微量移动。 图12.1 透射式光纤位移传感器 12.1.1 光强调制型光纤位移传感器 如果移动光纤引起两束光的中心轴错位，就会增加光的损耗，光纤移动后得到的光强和两段光纤中心重叠部分的面积[如图12.1(a)中阴影部分所示]成正比。 利用心径为50 um 的多模光纤进行实验，轴偏离位移损耗如图12.1(b)所示。 12.1.1 光强调制型光纤位移传感器 为了提高测量灵敏度，在光纤端面上制作透明与不透明等间隔相间排列的栅状条格，如图12.2所示，用这种栅格控制光纤端面上光强的分布。光纤中光通量的变化，由间距为 L 的两个栅格之间错开的位移量来决定。 图12.2 采用双光纤调制光强的透射式光纤位移传感器 12.1.1 光强调制型光纤位移传感器 在两根光纤的端面之间放入活动光闸门，对进入接收光纤的光束产生一定程度的遮挡，外界信号通过控制光闸门的位移来约束遮光程度，实现对进入接收光纤的光强的调制，其原理图如图12.3(a)所示。 图12.3 采用光闸门的透射式光纤位移传感器 12.1.1 光强调制型光纤位移传感器 为了提高传感器灵敏度，可以利用如图12.3(b)所示的栅格法。这种结构增加了光纤端面间的距离，为了提高光传输效率，需要在光纤端面上组装光学透镜。 2．反射式光纤位移传感器 反射式光纤位移传感器可以使用两根光纤，分别用于传输光及接收光；也可以用一根光纤同时承担这两种功能，其原理图如图12.4所示。 12.1.1 光强调制型光纤位移传感器 图12.4中，A 面是一个反射膜板。光源发出的光进入发送光纤，从光纤端面射出，照射到 A 面上，A 面的反射光有一部分进入接收光纤。 当A 面到光纤端面之间的距离 z 变化时，进入接收光纤的光强度也随之发生变化，通过检测反射光的光强变化测定出反射膜的微小位置变化。 图12.4 反射式光纤位移传感器的原理图 12.1.1 光强调制型光纤位移传感器 图12.5是位移量 z 与光探测器上输出电压 U 的变化曲线。AB 段灵敏度高，线性也好，但 z 的变化范围不大。CD 段斜率较小，灵敏底较低，但线性范围比 AB 段宽。 图12.5 位移与输出电压的变化曲线 12.1.1 光强调制型光纤位移传感器 3．微弯式光纤位移传感器 微弯式光纤位移传感器，如图12.6所示。两块波纹板组成一个微弯变形器，微弯变形器将光纤夹在中间，在变形器前设有脱模器，脱模器的作用是在光纤进入微弯变形器之前吸收掉光纤包层中的光。 图12.6 微弯式光纤位移传感器结构示意图 12.1.1 光强调制型光纤位移传感器 理论和实验证明，通过检测出纤心模或包层模中的光功率就可以检测出相对位移了。 微弯式光纤位移传感器可分为亮场型和暗场型两种。前者是通过对纤心中光强度的变化来实现信号性能的转换；而后者则检测包层中的光信号。 12.1.1 光强调制型光纤位移传感器 亮场微弯位移测量实验装置如图12.7所示。 在微弯变形器的前后均设有脱模器，前面的脱模器的作用是在光纤进入微