[信息与通信]第2章器件物理基础.pptVIP

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  • 2018-03-07 发布于浙江
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[信息与通信]第2章器件物理基础

模拟CMOS集成电路设计 第二章 器件物理基础 N型、P型半导体 N型(Negative):型掺杂是在硅中添加磷 ,磷和砷的外层都有五个电子,因此它们在进入硅晶格时不会处在正确的位置上。第五个电子没有可供结合的键,因此可以自由地到处运动,只需很少的一点杂质就可以产生足够多的自由电子,从而让电流通过硅。N型硅是一种良好的导体。电子具有负(Negative)电荷,因此称作N型硅。 N型、P型半导体 P型(Positive):对于P型掺杂,则使用硼或镓作为掺杂剂。硼和镓都只有三个外层电子。在混入硅晶格后,它们在晶格中形成了“空穴”,在此处硅电子没有形成键。由于缺少一个电子,因此会产生正(Positive)电荷,故此称作P型硅。孔可以导电,空穴很容易吸引来自相邻原子的电子,从而使空穴在各原子之间移动。P型硅是一种良好的导体。 PN结的形成 PN结的单向导电性(即正向导通,反向截止) 一、正偏特性 二、反偏特性 结论: PN结具有单方向导电特性。 MOS器件结构 MOS Device Structure (MOS) MOS器件结构 1、MOS器件是四端器件,电压控制器件 2、MOS器件的源和漏在几何上是等效的,可互换。 3、衬底端的电平必须是PN结反偏,用过重掺杂的欧姆接触连接 4、 N阱CMOS工艺,NMOS共享一个衬底端,PMOS有各自 的衬底端。接法? MOS器件

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