[其它技巧]Microsoft PowerPoint - 5 硅的气相外延生长.pdfVIP

第五章第五章 硅的气相外延生长硅的气相外延生长 第五章第五章 硅的气相外延生长硅的气相外延生长 §5.1 §5.1 真空基础真空基础 §§5.1 5.1 真空基础真空基础 §5.2 §5.2 硅的气相外延生长硅的气相外延生长 §§5.2 5.2 硅的气相外延生长硅的气相外延生长 §§4.1 真空基础真空基础 §§ 真空基础真空基础 真空：低于1个大气压的气体空间。 粗真空：1×105 2 ～1×10Pa 2 -1 低真空：1×10 ～1×10 Pa (滞流状态向分子状态过渡，分子平均自由 程与容器相当，对流现象消失) -1 -6 高真空：1×10 ～1×10 Pa -6 超高真空：1×10 Pa §§4.1 真空基础真空基础 §§ 真空基础真空基础 1. 单位