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等离子体清洗技术及相关工艺 什么是等离子体 含有离子、电子、高活性自由基和电中性分子的 可以导电的气体，这就叫等离子体。人们又称物 质的第四态，等离子体在世界上到处都存在着： 太阳，很多恒星 北极光（见右图） 日光灯，霓虹灯 电弧焊 等等 等离子体清洗技术及相关工艺 等离子体技术的发展 六十年代集成电路的刻蚀发展，是推动等离子体 发展的最大推动力 八十年代国外开始用于其他领域的清洗以及表面 改性 国内在最近两三年开始用于电子元件清洗，表面 改性还无人问津 等离子体清洗技术及相关工艺 等离子体的产生机理 简要结构示意图： 真空罩 高真空 电极板 高频，高压 高频高压 工作气体，如氧气、氢 发生器 气、氩气、氮气等 火线 220 V 电极板和工 电子被加速，轰击工作气 件 体分子，发生电离，产生 零线 离子 污垢被氧化成二氧化碳和 水或其它气体，被抽走 如氧气等离子体形成过程 即可用下列6个反应式来 去真空泵 工作气体入口 表示（见下页）： 等离子体清洗技术及相关工艺 氧气等离子体的产生（见右图反应式） 第一个反应式表示氧气分子在得到外界能量 后变成氧气阳离子，并放出自由电子过程 第二个反应式表示氧气分子在得到外界能量 后分解形成两个氧原子自由基的过程 第三个反应式表示氧气分子在具有高能量的 激发态自由电子作用下转变成激发态 第四第五反应式则表示激发态的氧气分子进 一步发生转变，在第四个反应式中，氧气释 放电子回到通常状态的同时发出光能（紫外 线） 在第五个反应式中，激发态的氧气分子分解 成两个氧原子自由基 第六个反应式表示氧气分子在激发态自由电 子的作用下，分解成氧原子自由基和氧原子 阳离子的过程，当这些反应连续不断发生， 就形成氧气等离子体 其他气体的等离子体的形成过程也可用相似 的反应式描述。当然实际反应要比这些反应 式描述的更为复杂 等离子体清洗技术及相关工艺 等离子体的分类 1）低温和高温等离子体 在等离子体中，不同微粒的温度实际上是不同的，所具有的温度是与微粒 的动能即运动速度质量有关，把等离子体中存在的离子的温度用Ti表示，电 子的温度用Te表示，而原子、分子或原子团等中性粒子的温度用Tn表示， 对于Te大大高于Ti和Tn 的场合，即低压体气的场合，此时气体的压力只有 几百个帕斯卡，当采用直流电压或高频电压做电场时，由于电子本身的质 量很小，在电场中容易得到加速，从而可获得平均可达数电子伏特的高能 量，对于电子，此能量的对应温度为几万度（K），而离子由于质量较大， 很难被电场加速，因此温度仅几千度。由于气体粒子温度较低（具有低温 特性），因此把