物理气相沉积TiAlN涂层的研究进展精选.docVIP

物理气相沉积TiAlN涂层的研究进展 摘要：本文概述了物理气相沉积TiAlN涂层的研究现状及发展趋势，详细分析了制备方法、Al元素含量、N2流量、基体偏压、温度以及其他元素对TiAlN涂层的结构、硬度、高温抗氧化性和耐腐蚀性等性能的影响。目前制备的TiAlN涂层存在残余应力较大，表面液滴数量较多和涂层致密度差等问题。为进一步促进TiAlN涂层的应用，今后还需探索该涂层的制备方法，优化其制备工艺。多元纳米复合涂层和超点阵多层涂层是两个具有潜力的发展方向。 关键词：TiAlN涂层 制备方法 晶体结构 硬度 高温抗氧化性 综述 Recent progresses in physical vapor deposited TiAlN coating Abstract: The research and development of physical vapor deposited TiAlN coatings are summarized in the paper. The preparation methods, aluminum content, nitrogen flow rate, substrate bias, temperature and alloying elements had significant effects on the properties of TiAlN coatings, including crystal structure, hardness, high temperature oxidation resistance and corrosion resistance. Although the coating was used in many applications, there were many drawbacks which limit its performance, such as high residual stress, formation of large droplets and poor density. For further application, new preparation method should be explored. Meanwhile, the optimization of the processing technology should be made. It is potential to develop multiple nano-composite coating and superlattice multi-layer coating in the future. Key words: TiAlN coatings, preparation methods, crystal structure, hardness, high temperature oxidation resistance, review 0前言 目前利用物理气相沉积技术(Physical Vapor Deposition, PVD)制备薄膜或涂层对金属进行表面改性已经取得很好的使用效果。氮化钛(TiN)涂层具有较高的硬度和良好的耐磨性，能够提高刀具、钻头等工具的寿命[1]，但抗高温氧化性能较差，在550 ℃时已经开始氧化[2]。随着现代工业的发展，TiN涂层已经不能满足切削刀具行业的要求，迫切需要新涂层材料的出现。 PVD方法制备的氮化钛铝（TiAlN）涂层是在二元TiN涂层的基础上发展起来的一种新型三元复合涂层。在TiAlN涂层中，Al原子取代了TiN面心立方结构中位于面心的部分Ti原子，使晶格发生畸变、晶界增多，同时位错数量增多且不易于滑移，因此其硬度显著高于TiN涂层[3,4]。高温条件下，TiAlN涂层表面能形成致密、完整、连续的Al2O3保护膜，提高了涂层的抗高温氧化性[5,6]。此外，TiAlN涂层还具有膜基结合强度高、耐腐蚀性和耐磨性好等特点[7-9]，目前已成功应用于模具制造、航空发动机和生物医学等方面[8-11]。因此TiAlN被认为是较TiN更有前途的新型涂层材料，近年来受到广泛地关注。 本文分析了制备方法、Al元素含量、N2流量、基体偏压、温度以及其他元素对TiAlN涂层的结构、硬度、高温抗氧化性和耐腐蚀性等性能的影响，讨论了存在的问题并提出了今后的研究方向。 1涂层的制备方法 PVD是利用物质的热蒸发或在受到粒子轰击时物质表面原子的溅射等物理过程，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。目前用PVD过程制备TiAlN涂层主要方法有溅射法、电弧离子镀膜法和磁控溅射离子镀膜法[5,12-18]。 溅射法是利用带有电荷的离子在电场中加速后具有一定动