CN107367900-CN201710706564-与光刻及其他应用中的超紫外辐射联用的材料、组件以及方法.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 107367900 A (43)申请公布日 2017.11.21 (21)申请号 201710706564.0 (22)申请日 2013.01.18 (30)优先权数据 61/588,601 2012.01.19 US (62)分案原申请数据 201380014923.6 2013.01.18 (71)申请人 苏普瑞亚 杰斯瓦尔 · 地址 美国加利福尼亚州 (72)发明人 苏普瑞亚 杰斯瓦尔　 · (74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公 司 31100 代理人 钱慰民 (51)Int.Cl. G03F 7/00(2006.01) G03F 7/20(2006.01) 权利要求书2页 说明书12页 附图4页 (54)发明名称 与光刻及其他应用中的超紫外辐射联用的 材料、组件以及方法 (57)摘要 描述了用于在紫外(UV)、超紫外(EUV)、和/ 或软X射线波长上工作的设备和系统中的纳米结 构的光子学材料及相关联的组件。此类材料可用 针对所选波长范围(诸如在特定UV、EUV、或软X射 线波长或波长范围上)设计的纳米尺度特征来制 造。此类材料可被用于制作诸如反射镜、透镜或 其他光学器件、面板、光源、掩模、光刻胶之类的 组件、或者用在诸如光刻、晶片图案化、生物医疗 应用之类的应用或其他应用中的其他组件。 A 0 0 9 7 6 3 7 0 1 N C CN 107367900 A 权　利　要　求　书 1/2页 1.一种用于制造光学元件的方法，包括： 提供基板； 在所述基板上组装多个纳米尺度特征，所述纳米尺度特征的尺寸在0.1nm至250nm的范 围中； 在所述纳米尺度特征周围集成第二材料；并且 其中，所述光学元件以0.1nm至250nm的范围中的经选择的波长操作。 2.如权利要求1所述的方法，进一步包括至少部分地移除所述基板的步骤，并且其中所 述光学元件被构造为自立结构、隔膜、部分受支撑的结构或支撑结构。 3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述组装步骤包括将所述纳米尺度特征组装 为牺牲结构或脚手架结构，并且进一步包括在所述纳米尺度特征周围集成所述第二材料之 后至少部分地移除所述纳米尺度特征的步骤。 4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述组装步骤包括使用嵌段共聚物、软模板 法或直接自组装来组装所述纳米尺度特征。 5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光学元件被构造为膜、反射镜、涂层、光 掩模、反光片、滤光器、光刻胶膜或层。 6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，第二材料经选择为金属、聚合物、电介质、气 体、有机材料、半导体、元素或化合物、空气、液体、化合物、半导体、聚合物、有机材料、生物 材料、单原子材料、空气、碳、钼、铍、镧、碳化硼、硅、SiO 、TiO 、钌、铌、铑、金、银、铜、铂、钯、 2 2 锗、DNA、蛋白质、石墨烯、石墨、碳纳米管、MoS、O 、N 、He、H 、Ar或CO 。 2 2 2 2 7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述集成步骤包括在所述纳米尺度特征周围 沉积、电化学沉积、电沉积、电成型或电镀所