新しい高密度记录技术高ku磁性材料-富士电机.pdf

富士時報　Vol.83 No.4 2010 新しい高密度記録技術 ──高K 磁性材料── u 集 特 New High Density Recording Technology: High K Magnetic Materials u 1 片岡　弘康 Hiroyasu Kataoka 小宮山和弥 Kazuya Komiyama 高橋　伸幸 Nobuyuki Takahashi K L 高い磁気異方性定数 を持 った 1 型 CoPt 規則合金膜のスパッタ法での合成 に，東北大学 と共同で初めて成功 した。 u 1 本材料のK 7 3 K 値は，最大で3.6 ×10 erg/cm に達 している。加えて，低い規則度から高い を持つ点で，ほかの規則合金 と u u 比較 して優れている。また，Ni を添加 した三元合金 にすると，広い組成域で構造および高いKu を維持 したまま，飽和磁化 M の制御が可能である。例えば，二元合金で，希少なPt が75 at% のとき得 られる磁気特性が，三元合金では，同 じ磁気 s 特性を得るのに，Pt 量を25 at% まで削減することができる。 In collaboration with Tohoku University, Fuji Electric has realized the first successful synthesis of a L1 type CoPt ordered alloy film hav- 1 ing a high magnetic anisotropy constan K K 7 t u using sputter technique. The u value of this material reached a maximum value of 3.6 ×10 erg/ cm3. Moreover, this material is superior to other ordered alloys even if the order is low and the K value is high. Also, a ternary alloy formed u by adding Ni to this material is capable of maintaining a crystalline structure and a high K value over a wide compositional range while con- u trolling the satura