CN107382375-CN201710568288-一种在陶瓷手机外壳上形成缩釉的制备工艺.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 107382375 A (43)申请公布日 2017.11.24 (21)申请号 201710568288.6 (22)申请日 2017.07.13 (71)申请人 深圳初上科技有限公司 地址 518000 广东省深圳市南山区沙河街 道沙河西路2009号尚美科技大厦1703 房 (72)发明人 代永宪　 (74)专利代理机构 深圳市神州联合知识产权代 理事务所(普通合伙) 44324 代理人 周松强 (51)Int.Cl. C04B 41/86(2006.01) C03C 8/00(2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 (54)发明名称 一种在陶瓷手机外壳上形成缩釉的制备工 艺 (57)摘要 本发明公开了一种在陶瓷手机外壳上形成 缩釉的制备工艺，其特征在于该方法将瓷胚制作 成手机壳状，再将瓷胚的表面涂覆下列组方做制 得的釉料，获得原胚，然后将原胚进行二次烧制 制成具有缩釉效果的手机壳：钠长石：65-75，高 岭土：1.5-3，石英：12-16，石灰石：6-8，氧化锡： 1-1.4。该工艺能够使得手机外壳的表面形成缩 釉裂纹的效果，且实现简便、控制指标简易可行， 制作成本低，便于实现大规模生产。 A 5 7 3 2 8 3 7 0 1 N C CN 107382375 A 权　利　要　求　书 1/1页 1.一种在陶瓷手机外壳上形成缩釉的制备工艺，其特征在于该方法将瓷胚制作成手机 壳状，再将瓷胚的表面涂覆下列组方做制得的釉料，获得原胚，然后将原胚进行二次烧制制 成具有缩釉效果的手机壳： 钠长石：65-75 高岭土：1.5-3 石英：12-16 石灰石：6-8 氧化锡：1-1.4。 2.根据权利要求1所述的在陶瓷手机外壳上形成缩釉的制备工艺，其特征在于所述钠 长石用量最好为68-72。 3.根据权利要求1所述的在陶瓷手机外壳上形成缩釉的制备工艺，其特征在于所述高 岭土用量最好为2-2.5。 4.根据权利要求1所述的在陶瓷手机外壳上形成缩釉的制备工艺，其特征在于所述石 英用量最好为14-15。 5.根据权利要求1所述的在陶瓷手机外壳上形成缩釉的制备工艺，其特征在于所述石 灰石用量最好为6.5-7.2。 6.根据权利要求1所述的在陶瓷手机外壳上形成缩釉的制备工艺，其特征在于所述氧 化锡用量最好为1.2-1.3。 7.根据权利要求1所述的在陶瓷手机外壳上形成缩釉的制备工艺，其特征在于所述方 法，其先将瓷胚按照手机壳的外形制作成成胚，再将成胚进行干燥，去掉成胚中的部分水 份，然后进行素烧，完全去除成胚中的水份；充分去除水份的成胚进行上釉处理，上釉后进 行干燥，获得原胚，将原胚进行二次烧制，即可制成具有缩釉效果的手机壳。 8.根据权利要求7所述的在陶瓷手机外壳上形成缩釉的制备工艺，其特征在于该方法 还包括有修胚过程，所述修胚过程位于上釉之前，即素烧后，手机壳会产生变形，此时进行 修胚处理，然后在进行上釉。 9.根据权利要求7所述的在陶瓷手机外壳上形成缩釉的制备工艺，其特征在于二次烧 制，烧制温度控制在1500°，时间为1小时。 2 2 CN 107382375 A 说　明　书