CN107015314-CN201710146928-一种EDFA用微光学混合器件制作方法及装置.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 107015314 A (43)申请公布日 2017.08.04 (21)申请号 201710146928.4 (22)申请日 2017.03.13 (71)申请人 武汉高新光机电有限公司 地址 430223 湖北省武汉市武汉东湖开发 区武汉大学科技园内创业楼2楼1.18 号 (72)发明人 黄华明　 (74)专利代理机构 北京路浩知识产权代理有限 公司 11002 代理人 汤财宝 (51)Int.Cl. G02B 6/27(2006.01) H04B 10/291(2013.01) H04J 14/02(2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图1页 (54)发明名称 一种EDFA用微光学混合器件制作方法及装 置 (57)摘要 本发明提供一种EDFA用微光学混合器件制 作方法及装置，所述方法包括：S1、制作反射芯 件；S2、检测老化后的反射芯件的系统存光及插 入损耗、回波损耗指标是否合格；S3、通过玻璃封 装技术将反射芯件与隔离器芯件封装；S4、测试 系统存光，并测试封装后器件的插入损耗、回波 损耗、方向性、隔离度指标是否合格。将光的耦 合、分光、密集波分复用等功能集成到一个器件 里面，减小器件的体积，优化损耗并减少了成本， 为EDFA的小型化、阵列化创造了条件，解决传统 结构不能满足EDFA小型化、阵列化的发展需求。 A 4 1 3 5 1 0 7 0 1 N C CN 107015314 A 权　利　要　求　书 1/1页 1.一种EDFA用微光学混合器件制作方法，其特征在于，包括： S1、制作反射芯件； S2、检测老化后的反射芯件的系统存光及插入损耗、回波损耗指标是否合格； S3、通过玻璃封装技术将反射芯件与隔离器芯件封装； S4、测试系统存光，并测试封装后器件的插入损耗、回波损耗、方向性、隔离度指标是否 合格。 2.根据权利要求1所述的EDFA用微光学混合器件制作方法，其特征在于，所述步骤S1具 体包括：将第一准直器和分光透镜粘接，在COM端口接光源端，TAP端口接功率计端，将第一 准直器和分光透镜固定在自动微调系统上，并进行插入损耗指标调节，将调节后的器件进 行紫外封装。 3.根据权利要求2所述的EDFA用微光学混合器件制作方法，其特征在于，所述步骤S1还 包括：将反射芯件放入85℃的烘箱中2小时并拿出，循环此操作至反射芯件老化。 4.根据权利要求3所述的EDFA用微光学混合器件制作方法，其特征在于，所述步骤S2具 体包括： S21、测试系统存光； S22、将老化后的反射芯件进端接光源，出端接光源，检查反射芯件插入损耗、回波损耗 指标是否合格。 5.根据权利要求1所述的EDFA用微光学混合件制作方法，其特征在于，在步骤S3中，通 过第二准直器将反射芯件、隔离器芯件通过玻璃封装技术进行封装，所述隔离器芯件固定 于第二准直器上。 6.根据权利要求1所述的EDFA用微光学混合件制作方法，其特征在于，在步骤S3中，通 过第二准直器将反射芯件、隔离器芯件通过玻璃封装技术进行封装，所述隔离器芯件固定 于分光透镜上，且所述第二准直器上粘接有滤波片。 7.一种EDFA用微光学混合器件，其特征在于，包括反射芯件和隔离器芯件，所述反射芯 件和隔离器芯件通过玻璃外壁密封。 8.根据权利要求7所述的微光学混合器件，其特征在于，所述反射芯件包括第一准直器 和分光透