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单晶硅片在脉冲激光作用下的断裂行为-光学精密工程
第 卷 第 期 光学 精密工程
19 2
Vol.19 No.2
O ticsandPrecisionEnineerin
年 月 p g g
2011 2 Feb.2011
文章编号 ( )
1004924X201102041407
单晶硅片在脉冲激光作用下的断裂行为
刘 剑,陆 建,倪晓武,戴 罡,张 梁
(南京理工大学理学院 应用物理系,江苏 南京 210094)
摘要:基于脆性材料在激光辐照下的断裂行为,将可控断裂激光切割技术应用于脆性材料的加工。为了分析脉冲激光辐
照脆性材料过程及脉冲激光扫描过程中产生的断裂行为机理,采用数值计算方法建立了含有裂纹的三维有限元热弹计
算模型。分析了脉冲激光辐照单晶硅片过程中温度场和热应力场的变化情况,并模拟计算了硅片边缘含有裂纹时裂纹
尖端应力强度因子的变化。计算结果表明,在激光加热区域前后位置存在两个拉应力区,且激光加热区域靠近硅片边缘
位置时,硅片边缘会产生较大拉应力;脉冲激光扫描硅片过程中,裂纹尖端的应力集中现象诱发材料持续开裂并引导裂
纹沿激光扫描方向扩展。得到的结果与文献报道的裂纹扩展过程相符。
关 键 词:单晶硅片;断裂;脉冲激光;热应力;应力强度因子
中图分类号: 文献标识码: : /
TN249 A 犱狅犻10.3788OPE0414
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