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光刻基本知识介绍 (Optical Lithography) ?? ?? ?随着科技的进步，微电子工业的制造技术一日千里，其中微影技术扮演着最重要的角色之一。 只要关于图形上的定义（patterning），皆需要使用微影技术，本文将对一般最常使用的光学微影技术（Optical Lithography）作一简单的介绍。??? ?? ???所谓的光微影术，简单的说就是希望将设计好的线路图形，完整且精确地复制到晶圆上。如图一所示，半导体厂首先需将设计好的图形制作成光罩（photo mask），应用光学成像的原理，将图形投影至晶圆上。由光源发出的光，只有经过光罩透明区域的部分可以继续通过透镜，而呈像在晶圆表面。? ? 　晶圆表面事先需经清洁处理，再涂抹上类似底片功能的感光化学物质，称为光阻剂 (photo resist）。 通过光罩及透镜的光线会与光 阻 剂 产生反应， 通常我们称此步骤为曝光。? ?图一：为标准光微影制程，曝光源通过光罩、透镜，最后将光罩图形成像于晶圆上。(取自Ref. 1)??　 ? ?? ???曝光后的晶圆需再经显影 ( development ) 步骤，以化学方式处理晶圆上曝光与未曝光的光阻剂，即可将光罩上的图形完整地转移到芯片上，然后接续其它的制程。因此在光微影技术中，光罩、光阻剂、光阻涂布显影设备、对准曝光系统等，皆是在不同的制程中，可以