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微波等离子与多种技术相结合开发创新镀膜设备新型膜材料的开发在推动一些新型产业发展上将起着越来越大的作用如半导体光电子传感器等产业上它依赖创新设备的研发使用兆赫的微波能使原料气体电离率达如再结合电子回旋共振技术其电离率可达但给予离子的能量却仅为属最有利于沉积膜的能量范围不似射频沉积能量高于将给膜和衬底带来轰击损伤其另一特点是微波又可以进行长距离等离子输运原料气化或溅射后由微波使其电离并能使输运过程中一直保持等离子状态这有利于在衬底上沉积膜均匀致密且与各种衬底结合力良好基于上述特点我们开发出多种技术
微波等离子与多种技术相结合
开发创新镀膜设备
新型膜材料的开发,在推动一些新型产业发展上,将起着越来越大的作用(如半导体、光电子、传感器等产业上),它依赖创新设备的研发。
使用2450兆赫的微波能使原料气体电离率达20%,如再结合电子回旋共振技术,其电离率可达100%,但给予离子的能量却仅为5~30ev,属最有利于沉积膜的能量范围。不似射频(RF:13.56MHZ),沉积能量高于50ev,将给膜和衬底带来轰击损伤。其另一特点是,微波又可以进行长距离等离子输运:原料气化或溅射后由微波使其电离,并能使输运过程中一直保持等离子状态,这有利于在衬底上沉积膜均匀、致密,且与各种衬底结合力良好。
基于上述
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