NKD7000-8000中文样本.docVIP

NKD-7000系列光学薄膜分析系统 英国AQUILA公司的NKD-7000薄膜分析系统是世界上第一台专为表征和分析薄膜涂层和基体材料而设计的光谱仪。 选件丰富，包括软件选择入射偏振光及其角度，甚至直径大到100mm的样品的X-Y方向上的自动扫描呈像。 软件全面控制和综合分析。 应用： 质量控制 薄膜表征 过程监测 厚度测量 可逆工程 基体表征 NKD-7000工作原理 AQUILA公司的NKD-7000结构紧凑，是计算机控制的专为分析光学基体和薄膜层而设计的光谱仪。 该系统测量样品尺寸大至20x25cm产生的偏振光或非偏振光的反射（R）和透射（T）光谱。而且，这些光谱都是精确地在样品上的同一点同时测量的，表明两种光谱可以同时通过分析程序测定基体和涂层折射指数（n）和消光系数（k），以及涂层的厚度（d）。 仪器本身只有单一控制的开/关键。其它的每种事情都是靠运行于PC机上的综合数据采集/分析软件来控制的。 NKD-7000用途 该仪器完全由我们的数据采集和分析程序Pro-OptixTM来控制。 新测量时，先要输入样品的细节参数和选择波长范围。为了保证高精度，每次测量前，仪器使用参比自动校准。 数据采集完成后，轻轻一点分析按钮，随即打开强大的分析软件包。 依靠样品已知信息的多寡，可以选择缺损分析模式自动获得涂层厚度和反射指数/吸收光谱，或者转入高级模式全面控制数据分析。 一旦材料用高级模式分析后，可被添加到系统数据库，以备将来分析类似涂层之用。 NKD-7000使用方法 分析软件采用一系列的分析模型来描述样品中每种材料的折射指数。模型使用最少数量的自由参数精确地复制n和k。 开始时，使用系统内置数据库中的参数，分析计算系统采用智能程序通过改变一个理论模型中的涂层厚度和散射参数来拟合测量得到的光谱。 如果某个具体材料没有存储于扩展数据库中，高级分析模式提供了一系列的工具去组建和完善一个新的散射模型。 为什么NKD-7000是目的导向性的仪器？ 常规的光谱仪一般是为化学分析而设计的，很差或很难用于薄膜样品的分析。 NKD-7000的样品室进出方便，样品只需放到水平台上即可，使得样品处理很容易。整个系统从设计上提供了真正的光学测量精度，无需放大校正或基线补偿。 不象椭偏仪，NKD-7000能够获得同样的精度而不需要特殊的基体制备或专门的研究人员。由于避免了在椭偏仪上使用的昂贵的偏振元件，NKD-7000是一个极其经济的解决方案。 特 征 主要优点 同时测量反射和透射光谱 综合控制和分析软件 结构紧凑的台式机 分析时，计算基体中的多种反射 数据分析可选用一系列散射模型 内置涂层性能数据库，可编辑， 可扩展 数据分析可采用一系列强大的数据 回归技术 数据可以表格方式输出，可传输到 Macleod光学涂层设计系统 可分析未涂覆基体的透射（T）和反射（R）的完整光谱，可提高分析薄膜的精度 几分钟内收集和分析数据 采用全封闭设计，仪器结实，可靠，稳定性高 能分析任意基体上的薄膜，甚至透明材料也无需特殊处理来避免背面反射 精确模拟分析多种材料 一旦一层分析完，就可添加到数据库，使得将来类似薄膜的分析快速简单 使用高级分析模式，能够分析完全未知的材料 综合薄膜设计和分析：测量数据可以回馈到设计过程以改善产品性能 技术指标: 波长范围 NKD-7000 350nm-1000nm (标准型) NKD-7000v 280nm-1000nm (UV增强型) NKD-7000r 800nm-1700nm (IR型) NKD-7000w 350nm-1700nm (宽光谱型) NKD-7000e 350nm-2500nm (超宽光谱型) 数据采集时间 2 - 10分钟，依范围和选件而定 数据分析时间 5秒 - 5分钟，依复杂性而定 光谱分辨率 1 或 2nm (可选) 光源 NKD-7000v 150W Xenon弧灯 其它 高稳定性100W石英卤化钨灯 样品尺寸 10x10mm (最小) - 200x250mm (最大)标准系统 直径100mm X-Y方向扫描台 层 最多可至5层，2个未知参数 薄膜厚度范围 10nm - 20 (m，依角度、偏振光和波长而定 基体 透明，半透明或半吸收。 最大厚度可达7mm。 材料 电介质，高聚物，半导体，金属 精度 半吸收膜 膜厚 折射指数 消光系数 金属膜 膜厚 折射指数 消光系数 典型 (1% (0.01% (1% (1% (1% (1% 最大 (3% (0