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NKD薄膜分析系统 NKD薄膜分析系统-薄膜工程师的理想选择 2. 技术优势 涂层工程师需要的信息: 透射系数 反射系数 吸收度 薄层厚度 同质性 NKD薄膜分析系统 …more…. 对新薄膜进行表征的强有力的工具 样品可在大范围分光情况下进行光学信息提取,例如可在不同入射角角度下,不同偏振态下测量T ，R. 2. 操作优势 2. 优势 – 使用成本 最后…. … Aquila拥有一支专业且具有奉献精神的团队致力于提供优秀的技术支持和仪器设备以满足客户需求. * 用于薄膜测量和分析的薄膜分析系统. 坚固外壳 NKD系列可同时测量不透明，透明以及半透明基体上多层薄膜的透射和反射光谱，并由此计算出其折射率（n),消光系数（k)，薄层厚度(d)和绝对吸收。 1. nkd – 概要 NKD薄膜分析系统是一种非接触式的光学测量手段，表征了样品重要的物理性质： 测量光的反射 – 反射光谱 R 测量光的透射 – 透射光谱 T 计算得出散射时不同波长所对应的折射率(n) n 得出不同波长所对应的吸收系数(k) k 计算出单层或多层薄膜/涂层每层的薄膜厚度 d 对绝对吸收的测量 1- (T+R) NKD 独有的功能 Q. NKD如何测量 n, k and d ? A. 透射光谱和反射光谱分别是折射光和反射光的干涉最大和最小. 透射光谱和反射光谱能以不同的散射模式进行拟合 强大的分析软件采用复位技术选择对应的散射模式来测量光谱，并从中选出合适的光学常数 Fitted model overlayed on measured spectra 薄膜 涂层 发展 涂层最优化处理 质量控制 现有涂层处理的维护管理 研究 新涂层 nkd 测量总的透射光谱 测量总的反射光谱 自动计算N，K，D 测量总吸收 – 膜和基片 测量厚度和光学性质 测量薄膜的同质性 and… Pro-OptixTM 操作软件集成了控制和分析功能 直观的界面 – 梦幻的测量和分析功能 高级功能 – 日光和颜色分析等(solar calculations colour calculations etc.) 多功能集成的软件,不需要再购买其他的分析软件 坚固的构造使之具有很长的寿命 易于操作, 最容易培训,不需要昂贵的费用去请专家 灵活的测量平台 – 相当于多台仪器的功能 不需要昂贵的样品准备工作 比椭偏仪便宜 高效的数据输出! 技术选粹–自动变化入射角情形下对T和R的测量 测量透射范围 0 - 90o 同时测量透射和反射角度范围 20 -70o 技术优势 – 测量不同温度下样品的绝对吸收 专为薄膜表征分析而设计 桌面式设计 对样品上同一区域同时进行 T 和R测量 宽的波长范围, 280-2300nm p-, s- 偏振态或非偏振光状态下对T和R的测量 一次测量可计算得出n, k 和 d 强大的集成分析软件 测量不同入射角度下的 T 和 R 适用透明,不透明及半透明基片 可变温度下测量T 及 R 样品可以X Y 方向移动扫描以测n, k 和d 密闭的坚固设计保护仪器，将环境噪音降低至最小 集成的光路，电子元件及软件使操作十分简单 直观易用的软件 标样确保测量的准确 2. 优势概述 NKD所独有的功能 同时测量T 和 R 一次测量能得出 n, k d 能测量p-, s-偏振态下或非偏振状态下的 T及 R 可变的入射角 强有力的多功能的分析软件 测量总吸收 1-(T+R) 应用举例. 传统的光学涂层 光学基体 激光器件, 全反射涂层, 高反射镜, 介质镜, 滤光器等等 平板显示器 有机液晶显示器 建筑业 – 高附加值的玻璃 热反射涂层 半导体行业 薄膜 基片 硅片上的聚合物 其他仪器的不足 单波长, 或者窄范围 无透射测量- 或者不能同时测量或者只能测量反射 不能同时计算全部3个参数 n, k 及d ，一般只测量一个参数 复杂的样品处理 多个因素造成测量误差 功能弱小的分析软件 无附件-有限的应用范围 目的集中在半导体行业---应用范围窄 不能分析多层膜 有一些是为化学分析制作的 光的偏振态上不可选 无入射光角度选择范围---通常是固定的或一个窄的范围 椭偏仪的不足之处 昂贵的偏振元件 不能一次测量得到 n 和k 特殊的, 破坏性的透明样品准备工作-不能求出基片上的二次反射 不能表征透明的光学基片 需要专家来执行耗时的，复杂的分析 通常没有分析软件 不能同时测量T和R，因此数据的相关性差 只适用于高的入射角度 设计目的是用于半导体工业 需要基线校准 多种因素会影响结果的精度