脉冲激光曝光SU8光刻胶的基础与光刻技术研究.pdfVIP

摘要 摘要 准LIGA技术由于其成本低、加工过程简便而倍受微加工制造行业的高度关 注。本论文利用激光的高方向性和脉冲的可控性，分别采用Nd：YAG二倍频 (532nnl)、三倍频(355hill)脉冲激光对SU．8胶进行曝光实验，研究高深宽 比、曝光精确可控的Laser-LIGA新技术，主要内容包括：两种不同波长的脉冲 激光曝光SU．8胶后产生的光化学变化、脉冲曝光光刻的工艺过程、以及提高光 刻深宽比和曝光剂量精确可控的技术途径。 1、对经过532nlil激光曝光后的SU．8胶进行了X射线光电子能谱(XPS)分 析，对比结果显示没有发生分子结构上的变化，F元素的摩尔含量亦未减少。表 明532nlll光子与光引发剂未产生酸催化反应，由此断定曝光未导致分子I自J的环 氧环交联，故532nm激光不宜用作SU．8胶曝光光刻光源。这一结论在曝光光刻 制备微结构的实验中己进一步得到证实。 2、将355nill激光曝光的实验样品进行XPS分析，结果显示F元素的含量大大 降低，C元素及0元素的中心峰位置基本没有发生移动，即元素的主要价态没有 发生变化。F元素的含量降低表明355ntil光子与光引发剂可能发生了酸催化反应