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高硼废液处理技术建立-fansWoo
封測製程高濃度特殊廢液
處理技術建立
期末報告
國立成功大學環工系
計畫主持人: 黃良銘特聘教授 、林財富特聘教授
李雅菁、雷媛媛
2016/9/30 ASE Confidential / SecurityASE Confidential / Security--CC
專案背景說明
專案名稱:封測製程高濃度特殊廢液處理技術建立
專案目的:1.針對高COD有機廢液進行前處理評估
2.針對高硼廢液進行前處理評估
3.針對雙氧水廢液進行前處理評估
專案 KPI :1. 專收處理廢液技術建立
2. 降低廢水排放衝擊
專案教授 :國立成功大學 環境工程學系
黃良銘 教授
研究專長:環境生物與分子生物技術、生物系統數學模式模擬、
廢水生物處理、再生生質能源、環境微生物生態
ASE Confidential / SecurityASE Confidential / Security--CC
研究課題
晶圓封測業因產品淘汰率高,製程及原物料變動快速的特性,
半導體產業鏈可分從上游矽晶圓製造、中游各規格晶圓經由電
鍍及光罩設計、蝕刻、擴散等製程,產生不同用途之晶圓、下
游則為晶圓切割、構裝成片狀的晶粒,再經焊接、電鍍、包裝
及測試後即為成品 。
半導體封裝製程流程如圖所示 ,在各階段製程的清洗步驟須使
用大量的純水,清洗廢水可分為有藥及無藥清洗排水為大宗,
而針對廢水特性做有效回收管理可解決台灣水資源不均問題 。
重覆性步驟: 有機廢水. 酸鹼廢水. 低有機廢水
無藥基版清洗廢水
晶圓
晶圓初成品 清洗 氧化爐 光罩(光阻、蝕刻 、清洗)
成品
擴散爐 金屬濺鍍
無藥切割廢水: 僅切削屑
晶圓成品 晶圓切割 晶片粘著 連線打著
封膠 印碼 去筋打彎 導線電鍍 浸錫 清洗
有機廢水 電鍍廢水 浸錫廢水
ASE Confidential / SecurityASE Confidential / Security--CC 3
晶圓封測業廢水常見處理流程
無機廢水系統
廢水調勻池 pH調整池 快混池 慢混池 沉澱池 MMF 放流池
無機廢水回收系統
清洗 製程
廢水調勻池
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