隔膜电解法产制二氧化氯之研究四环四a4960n058许峻嘉.pptVIP

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隔膜电解法产制二氧化氯之研究四环四a4960n058许峻嘉

隔膜電解法產製二氧化氯之研究 四環四A 4960N058 許峻嘉 目錄 摘要 前言 實驗原理 實驗目的 實驗步驟 結果與討論 結論 摘要 前言 台灣自來水廠多以氯或次氯酸作為淨水程序中的消毒劑;水中有機污染物增多使加氯量增加,大大提高自來水中消毒副產物的危害機率,因此多國把消毒副產物列管,且學者也著手研究替代藥劑,以期有效抑制或降低消毒副產物的產生。 二氧化氯在保存、運送上不穩定,故大多現場製藥,傳統以酸化法進行,近年來以電化學法電解進行。故本研究採電化法電解並以氯化鈉溶液為背景電解質執行。 實驗原理 電化學法(electrochemical)電解進行,該方法只要單一化學藥品做為反應基質,且以後段提濃產出高濃度二氧化氯。 以電化學法進行氯化鈉為基質與不同比例亞氯酸鈉為輔混合,探討所混合不同比例之亞氯酸鈉對於電解後產出二氧化氯之情形,該法相較於以單一藥品為反應基質其二氧化氯產出效果為佳。 實驗目的 本研究主要目的是以地下水做為電解質背景溶液,研究電解液中不同氯化鈉含量及添加亞氯酸鈉後不同組成分對二氧化氯的產出情形,並且探討添加不同起始pH 的電解液槽體內的一個變化情形。 主要將實驗規劃為以下方式:(1)探討不同電解參數(電壓、氫氧化鈉添加量及氯化鈉濃度)對二氧化氯及其他氯系化合物之影響。(2)以不同電解液組成成份為參數,探討二氧化氯產出情形之影響。 實驗步驟 本研究設備主要由一組陰、陽極板做為主體,供應電源主要以直流電進行,並且以離子交換膜將槽體分為陰、陽極室,其中陰、陽極板材質為表層塗有貴金屬之鈦板以增加其活性。離子交換膜主要目的在於使OH-在電解過程中可在陰陽兩極室間自由移動,確保陰極室與陽極室間之反應。陽極室二氧化氯的收集主要是利用文氏管所產生出的負壓,進而溶入水中製成二氧化氯之溶液。電解反應槽如圖3-1 所示。 結果與討論 試車操作結果顯示於持續操作運轉下,當時間達30 分時,溫度由原本23.8℃上升至40.2℃,超過30 分後溫度即開始下降,因此以60 分為研究時間。而電流變化趨勢於操作30 分後由起始7.3 A 上升至65.3 A,本電解裝置之供電系統,並未含有外部提升操作電流之功能,因此測定槽內導電度來鑑定其電流介質之多寡,圖4-1 可看出隨著時間增加,導電度降低,由起始133 ms/cm 減少至45.6 ms/cm,表示陽極室電解液裡傳遞電流介質之多寡與電流及導電度變化呈現相關性。故操作時間增加,電解液中的反應物隨之提高。 圖4-2 所示,發現二氧化氯及其氯系化合物濃度隨時間增加而上升,ClO2 於40 分鐘時有最高濃度17.54mg/L,其餘濃度分別ClO2-:0mg/L、ClO3-:2.36 mg/L 及Cl2:64.16 mg/L。若以四種產物之合為總量計算百分比以表示二氧化氯純度時,各反應物所佔百分比分別為ClO2:21%、ClO2-:0%、ClO3-:3%及Cl2:76%,很明顯看出所產生出來的二氧化氯其濃度及純度都偏低,反而是以氯氣為主要產生之物種。綜合上述結果可知,當陽極室添加NaCl 10%時,其電流值已經達到65.3 A,為避免後續操作電流值過大及安全性,因此陽極室NaCl 的添加上限為10%。 不同電壓對二氧化氯及其氯系化合物之影響 陰極室內加NaOH 對二氧化氯及氯系化合物之影響 固定NaCl 最低添加濃度改變NaClO2 添加濃度 結論 1. 針對本研究模組試車可看出,隨著電壓的提升,槽體內的溫度及電流也隨之升高,呈現正相關性。 2. 當改變陰極室內氫氧化鈉濃度時,隨著氫氧化鈉濃度的提高,因為增加其反應速率,使得二氧化氯產出會提早出現。 3. 改變陽極室內氯化鈉濃度時,隨著氯化鈉濃度的提高,二氧化氯產量也會隨之增加,主要為增加之反應物濃度增加故其產物相對提高。 4. 主成份為 NaCl 之陽極室,添加NaClO2 濃度,有助於提高ClO2 的濃度及純度,隨著NaClO2 濃度的提高,使得ClO2 之濃度及純度亦隨之提高。 5. 當以 NaCl 2%與NaClO2 6%兩者混合做為陽極室電解液時,以12V 電解操作20 分鐘時可得ClO2 濃度302.01 mg/L、純度91%。 6. 槽體內 pH 值皆會隨著電解時間而下降,導電度則隨著電解時間而逐漸升高。 投影片已結束 謝謝觀賞 * 目前許多歐美國家淨水廠將二氧化氯(ClO2)做為消毒程序之用藥,主要因為二氧化氯消毒效能甚佳並對消毒副產物能有效控制。 本研究主要是探討槽體內不同電解液組成成分對二氧化氯產出情形之影響。 研究結果發現電解操作過程中,如以二氧化氯以最佳產能為目標,在NaCl 2%及NaClO2 6%兩者混合為陽極電解液時,於12V 電解20 分鐘後可得濃度302.01mg/L、純度91%之ClO2 溶液。 *

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