基于单片机的除氧器液位控制系统开题报告_精品.doc

本科毕业设计开题报告 题 目： 题 目 基于单片机的除氧器液位控制系统 来源 工程实际 1、研究目的和意义 除氧器是锅炉及供热系统关键设备之一，每年因氧腐蚀而对锅炉给水管道、省煤器和其它附属设备的腐蚀造成的严重损失。在锅炉给水处理过程中，除氧是非常关键的环节.氧是给水系统和锅炉的主要腐蚀性物质，给水中的氧应当迅速得到清除，否则它会腐蚀锅炉的给水系统和部件，腐蚀产物氧化铁会进入锅炉内，沉积或附着在锅炉管壁和受热面上，形成传热不良的铁垢，而且腐蚀会造成管道内壁出现点坑，造成阻力系数增大，管道腐蚀严重时，甚至会发生管道爆炸事故。 随着社会生产发展的需要，锅炉参数的提高和容量的增大，锅炉的用水量也将进一步增大，这将进一步加大除氧器除氧控制的难度，所以人们对它提出了更高要求。有些企业锅炉的给水系统设计不合理，运行水位调节不方便，为保证锅炉补给水，要求锅炉运行人员根据负荷变化及时调节进水阀门。这就在很大程度上给工厂的自动化和无人化造成了困难。于是这里采用了用单片机对除氧器的液位进行控制，以保证除氧器内液面稳定，极大的减小了人工劳动的繁琐。 2、国内外发展情况(文献综述) 近年，通过对许多老厂的改造，使得水处理系统上了一个新的层次。但是这还远远不够，目前我国拥有的锅炉设备近五十万台，其中进行水处理系统升级仅仅是一小部分的热电厂等国有大型企业。以往的水处理系统都不能很好的达到国家标准，而且不能很好的适应企业自动化，无人化的理念，所以对给水除氧器的水位控制系统的研究就迫在眉睫了。 3、研究/设计的目标： （2） 除氧器压力测量范围：0～100Kpa。 （3） 除氧器液位控制点：1200mm。 （4） 液位高报警点：1300mm。 （6） 电源： 220VAC。 4、设计方案（研究/设计方法、理论分析、计算、实验方法和步骤等）： 　在本控制过程中，关键的问题是过程参数PID （P:比例系数I:积分系数、D:微分系数）的整定。由于除氧器运行过程中，处理水的流量取决于内水位和给水流量。为了保证系统的相对稳定运行，不出现大的波动，对生产造成影响，在调试过程中，应多次反复调整PID参数，直至出现最佳控制过程。 5、方案的可行性分析： 6、设计产品的主要用途和应用领域： 7、时间进程 6—8周 集中完成任务书、进行系统的方案设计； 9—12周 开始做硬件图以及流程图； 13—14周 完成论文初稿； 15周 论文修改定稿； 16—18周 完成毕业说明书及其它相关资料； 8、参考文献： 2 李广弟等.单片机基础[修订版].北京：北京航天航空大学出版社.2001年7月第二版 张积东.单片机的开发与应用[M]. 北京电子工业出版社，1994 5 阎石.数字电子技术基础.高等教育出版社，1998：67-102 7 邱关源.电路. 北京工业出版社，1999：77-104 刘笃仁.韩保君传感器原理及应用技术.西安电子科技大学出版社，2003：50-70 赵继文.传感器与电路设计.科学技术出版社，1998：60-90 郝芸.传感器原理与应用.电子工业出版社，2002：33-78 张永瑞.电子测量技术基础.西安电子科技大学，1994：178-202 13杨国荣 杨煜文，苏剑云.锅炉系统中的除氧液位及压力控制,电工技术，2006年1月 14周妮娜.模糊控制在锅炉除氧系统中的应用.计算机仿真,2008年3月 15蔡颖，李松波．锅炉系统常用除氧方法综述[J]．内蒙古石油 化工，2003，29：36—38． 16曲延滨．除氧系统模糊控制器的设计与实现[J]．电力系统自动化，2002，26(19)：68—7O 17李强，屈宝存，葛制强．模糊自整定PID算法在锅炉压力系统 中的应用[J]．计算机仿真，2006，23(5)：138—141 18徐爱均，彭秀华．单片机高级语言C51Windows环境编程与应用[M]．北京：电子工业出版社，2001．14—499 19程福宏. 除氧器液位检测与控制. 化工自动化及仪表,2000,27(1) : 73-74 20胡锦亮.锅炉除氧器给水系统节能改造.中国设备工程，2004年4月 21刘耀先.锅炉给水除氧方式的分析与改进.工业水处理，2002，22（12） 22江号叶.一体式除氧器水位控制与保护介绍.电站辅机，200年12月 23金王贵. 电站压力式除氧器安全技术规定[ M ] . 上海: 上海科学普及出版社, 1992. ?指导教师意见: ? ? ? 教师签字： 年 月 日 毕业设计领导小组意见: 组长签字： 年 月 日