半导体厂厂务化学品3r减量.pdf

半導體廠廠務化學品3R 減量 王正維 台灣積體電路製造股份有限公司cwwangf@ 摘要 化學品節量及管控著手。 在半導體製造過程中，需要利用種類繁多的化 本文以兼顧品質與穩定供應為前提，針對化學 學品、特殊氣體以進行產品的塗佈、顯影、蝕刻、 品使用具週期變化、層別耗量大的系統，分析使用 擴散、研磨、清洗等繁複的生產步驟，而這些經製 狀況後，由環保3R(Reduce, Recycle ,Reuse)著手進 程使用後的化學品、氣體絕大部分最終都將以液態 行廠務化學品減量改善，不僅減少污染外，亦降低 廢棄物的方式呈現，並且仰賴分佈於各製程區域的 實廠運轉上之成本，內容簡述如下。 製程排放管路輸送至各特定的處理、收集抑或是回 1.回收 CHF(Concentrate HF)廢液(20%)作為回收 收(Reclaim)系統，最終進行放流或回收純化/利用 工業原料，大幅降低HF 廢水處理系統CaCl2,NaOH 之程序，選擇適當的處理方式及有效積極的降低化 用量及CaF2 污泥產生量。 學品合理用量，亦即為此篇工程報告的論述重點。 2.精算再生化學品用量後，於純水系統修改陽離子 樹脂塔再生 HCl 槽液位控制功能，達到樹脂再生 2. 現況說明 藥品最佳化。 3.配置EBO(光罩廠)機台使用後之廢H SO 回收設 2.1 CHF(Concentrate HF) 廢液回收【Reuse 】 2 4 備，將EBO 排放H SO 回收再利用。 為提昇 CHF 廢液回收其回收濃度及回收價 2 4 4.以不需使用化學品處理之EDR(倒極式電透析)方 值，首要為進行管路分流，其次為設置獨立收集桶 式處理DHF(Diluted HF)廢水。 槽與外送管路之工程。委外回收的廢液在濃度越 5.回收再利用 Fab BENCH 機台使用之混酸 M2 高，不純物越少的情況下，不但可增加廠商回收意 (77% H PO ,19% CH COOH,4% HNO ) ，達到中和 願、提升回收價格，也大幅減少外送及回收二次處 3 4 3 3 系統化學品減量目的。 理中的相關風險。 以上改善效益除減少 2240 噸/年之化學品用 Fab8 依 HF 廢液排放濃度，將其進行濃稀分 量，以及降低運轉成本 13.5 百萬/年外，關於環保 流，以利後續處理或回收(圖一) 。製程使用HF 濃 效益更是無價。茲將此份報告與大家分享，或提供 度分為: 49% 、25% 、50:1 、100:1….. ，濃稀分流之 日後各單位先進處理廢水之參考。 規劃，有助於HF 廢液排放至廢水處理系統處理時 關鍵字: 化學品減量,HF,EDR,M2, H SO ,樹脂塔 的濃度控制，避免廢水處理時過大的濃度變異造成 2 4 處理系統的負擔。Fab8 HF 廢液收集管路分為： 1. 前言 【1】高濃度HF 廢液排放管路( CHF : Concentrated HF Drain) (20%) 台積電在環保、安全、衛生政策中明白