氮气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备犆狉犃犾荦薄膜性.PDFVIP

第 卷 第 期 中 国 表 面 工 程 ２４ ４ Ｖｏｌ．２４ Ｎｏ．４ 　 　 　 　 　 年 月 ２０１１ ８ ＣＨＩＮＡＳＵＲＦＡＣＥＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧ Ａｕｕｓｔ ２０１１ ｇ ： ／ ｄｏｉ１０．３９６９ ．ｉｓｓｎ２０１１．０４．００２ ｊ 氮气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备犆狉犃犾犖薄膜性能的影响 ， ， １ ２ １２ １ １ １ １ １ 吕艳红 ，孔庆花 ，吉 利 ，李红轩 ，刘晓红 ，陈建敏 ，周惠娣 　 （ 中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室，兰州 ； 中国科学院 研究生院，北京 １． ７３００００ ２． １０００４９） 摘 要：采用中频非平衡反应磁控溅射技术制备 ＣｒＡｌＮ薄膜，研究了氮气分压对 ＣｒＡｌＮ薄膜的沉积速率、薄膜成分、 　 微观结构、机械性能和耐腐蚀性能的影响，并与 薄膜的性能进行了比较。研究表明，相比较 薄膜而言， ＣｒＮ ＣｒＮ ＣｒＡｌＮ 薄膜的硬度高，结构致密，耐腐蚀性好。随着氮气流量的升高， 薄膜沉积速率降低， ／ 比率升高；薄膜中 ＣｒＡｌＮ ＣｒＡｌ ＣｒＮ （ ）衍射峰强度逐渐增强，六方结构的 相逐渐消失；薄膜的粗糙度由 降低至 ，并且腐蚀电位升高，耐 ２００ ＡｌＮ ３９ｎｍ １０ｎｍ 腐性增强。当氮气流量为 ／ 时， 薄膜具有最佳的硬度和优良的耐腐蚀性能。 ５３ｍＬｍｉｎ ＣｒＡｌＮ 关键词：磁控溅射；ＣｒＡｌＮ薄膜；微观结构；硬度；腐蚀 中图分类号： ； 文献标识码： 文章编号： （ ） ＴＧ１７４．４４４ ＴＢ４３ Ａ １００７９２８９２０１１０４０００７０６ 　　 　　 犐狀犳犾狌犲狀犮犲狅犳犖犻狋狉狅犲狀犉犾狅狑狊狅狀犘狉狅犲狉狋犻犲狊狅犳犆狉犃犾犖犉犻犾犿 犵 狆 犘狉犲犪狉犲犱犫 犕犻犱 犳狉犲狌犲狀犮犝狀犫犪犾犪狀犮犲犱犕犪狀犲狋狉狅狀犛狌狋狋犲狉犻狀 狆 狔 狇 狔 犵 狆 犵 ， ， １２ １２ １ １ １ １ １ ， ， ， ， ， ， ＬＶＹａｎｈｏｎ ＫＯＮＧＱｉｎ ｈｕａ ＪＩＬｉ ＬＩＨｏｎ ｘｕａｎ ＬＩＵＸｉａｏｈｏｎ ＣＨＥＮＪｉａｎｍｉｎ ＺＨ