01华梵大学机电工程学系专题研究成果报告.PDFVIP

101 華梵大學機電工程學系專題研究成果報告 紫外線曝光機制之最佳化研究 指導教授 : 黃忠仁 教授 參與學生 : B9802079 連浩丞 一、摘要 最後成品的好壞與光阻本身的時效限和 本研究主要是利用無塵室裡 光阻塗佈的厚度，顯影的時間有很大的 的黃光室進行塗佈 ，烘烤 曝光 ， ，顯影這四大類為主的實驗，並 關係 。 根據不同的參數進行更進一步的 分析及改進 ，因此此實驗需要不 下圖為顯影時間過長，塗佈厚度不夠的實驗 斷重複設定參數來達到最佳化 。 品 二、前言 近幾年來 ，台灣的半導體產業 日趨成熟 ，儼然成為整個國家的經 濟動脈之根本 ，而隨著電子科技的 蓬勃發展，高科技產業的技術不斷 成長 ，因此本實驗要求結果盡量達 成最佳化 。 三、研究