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日光温室滴灌条件下滴头流量和间距对黄瓜生长的影响.PDF
第 21 卷 第 10 期 农 业 工 程 学 报 V o l. 21 N o. 10
2005 年 10 月 T ransactions of the CSA E O ct. 2005 167
日光温室滴灌条件下滴头流量和间距对黄瓜生长的影响
1 1※ 2 3 3 3 3
王 舒 , 李光永 , 孟国霞 , 贾云茂 , 王占胜 , 邱江泉 , 段树强
( 1. 中国农业大学水利与土木工程学院, 北京 100083; 2. 山西省水利科学研究所,
太原 030002; 3. 山西省中心试验站, 文水 032107)
摘 要: 滴头流量和滴头间距是影响滴灌系统投资的重要参数, 为探索降低系统投资, 在日光温室中进行了滴头流量和滴头间距对黄瓜生
长影响的试验。试验共设 4 种处理, 滴头流量滴头间距分别为 2. 7 · - 130 、2. 7 · - 150 、1. 4 · - 130 和 1. 4 · - 1
L h cm L h cm L h cm L h
50 , 处理间灌水量相同。研究结果表明: 在相同灌水量情况下, 4 种处理的产量分别为 80. 63、85. 66、94. 31 和 90. 91 2 , 作物水分利用
cm t hm
效率分别为23. 6、24. 9、27. 9 和 25. 4 3 , 没有形成显著统计差异。由此可见在试验限定条件下对于温室垄作黄瓜, 滴灌系统采用较大的
kg m
滴头间距和较小的滴头流量时, 不会影响产量与质量, 但可降低系统投资。试验还得出了黄瓜各生育阶段的耗水量、作物系数和需水系数。
关键词: 滴灌; 日光温室; 滴头流量; 滴头间距; 黄瓜; 产量
中图分类号: S274 文献标识码: A 文章编号:(2005)
( )
王 舒, 李光永, 孟国霞, 等. 日光温室滴灌条件下滴头流量和间距对黄瓜生长的影响[J ]. 农业工程学报, 2005, 21 10 : 167- 170.
, , , .
W ang Shu L i Guangyong M eng Guoxia et al Effects of dripper discharge and spacing on grow th of cucum ber in Ch inese so lar
( ) ( )
[ ]. , 2005
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