高熵合金氮化物薄膜被覆於超.PDFVIP

高熵合金氮化物薄膜被覆於超 硬刀具表面製程之微結構與切 削性研究 宋寰欣、林奕辰、張子欽、陳威吉 2009 10 14 碧威股份有限公司 1 簡報大綱 前言 實驗方法與步驟 結果與討論 結論 碧威股份有限公司 2 前言 近年來，由於3C產品如印刷電路板等，為避免產品上的精密電路遭 受污染，因此無法於產品加工時添加切削液降低刀工具及工件溫度， 導致在高速切削、重切削及工件溫度攀昇極快的加工環境下，易產生 高溫而致使刀工具加速磨耗，降低其使用壽命，因而提高生產成本。 因此利用射頻磁控濺鍍系統，於碳化鎢刀具及矽晶片基材上，沈積被 覆高熵合金鍍膜，其鍍膜厚度以射頻磁控濺鍍系統控制在 1-2μm之 間以研究 TiVCrZrAlN高熵合金在基材上的附著性、耐磨耗性，並探 討薄膜微結構、以其製程條件分析 TiVCrZrAlN高熵合金薄膜對碳化 物刀具的附著性隨著氮氬百分比增加促使整個薄膜緻密性變好。由 OM與SEM顯微鏡的觀察下可看出 TiVCrZrAl氮化物薄膜的刀具進行 高轉速與高進給的切削條件下切削阻力比未披覆薄膜的小，切屑表面 情況也較為平順刀具壽命因此而延長。 碧威股份有限公司 3 實驗流程圖 碧威股份有限公司 4 實驗方法與步驟 靶材製備 採用等莫耳之Ti 、V 、Cr 、Al 、Zr五種元素來配置五元TiVCrZrAl高熵合金 真空熔煉靶材 TiVCrZrAlN硬質薄膜鍍著 射頻磁控反應濺鍍沉積 TiVCrZrAlN氮化物薄膜 實驗參數為固定功率 150W 、工作壓力5mtorr 、工作距離9cm下，改變不 同氮氬百分比進行濺鍍，百分比分別為 0% 、9.1% 、16.7% 、50% 。 TiVCrZrAlN硬質薄膜分析 場發射掃描式電子顯微鏡（FE-SEM）觀察薄膜表面（Plane-view ）和橫截面 （Cross-section ）之形貌與膜厚量測，X光繞射儀（XRD ）分析微結構與晶體 結構。 TiVCrZrAlN硬質薄膜鍍著刀具切削 濺鍍沉積於碳化鎢 (cWC-K30)刀具基材 將刀具裝上高速主軸實際機械加工SKD11模具鋼觀察TiVCrZrAl硬質薄膜 在輕重切削、高轉速及高進給率下鍍層本身之劣化。 碧威股份有限公司 5 實驗結果