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CdTe量子点荧光增敏法测定新霉素含量.pdf
第 卷第 期 分 析 科 学 学 报 年 月
3 2015 8
1 4
ol.31 No.4 OURNAL OFANALYTICAL SCIENCE Au 2015
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OI 10.13526 .issn.1006 144.2015.04.016
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量子点荧光增敏法测定新霉素含量
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永强 李 娜 毛 晶
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1 辽宁工程技术大学理学院 辽宁阜新
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2. 宁工程技术大学安全科学与工程学院 矿山热动力灾害与防治教育部
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重点实验室 辽宁阜新 23000
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3. 津大学材料科学与工程学院 天津市材料复合与功能化重点实验室 天津 00072
3
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摘 要 在 ( ,
水溶液中制备巯基乙酸修饰的 量子点 基于新霉素对
CdTe Ds CdTe
Q
, 。
QDs的荧光增敏效应 建立了一种测定新霉素的荧光分析新方法 考察了缓冲体系及
、 、 。
H 值 量子
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