CdTe量子点荧光增敏法测定新霉素含量.pdfVIP

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CdTe量子点荧光增敏法测定新霉素含量.pdf

第 卷第 期 分 析 科 学 学 报 年 月 3 2015 8 1 4 ol.31 No.4 OURNAL OFANALYTICAL SCIENCE Au 2015 V J .         g  D : / 6 OI 10.13526 .issn.1006 144.2015.04.016 j - 量子点荧光增敏法测定新霉素含量 dTe C , 1 12 * 3 毛 , , 永强 李 娜 毛 晶     ( , ; 1 辽宁工程技术大学理学院 辽宁阜新 . 23000 1 辽 , 2. 宁工程技术大学安全科学与工程学院 矿山热动力灾害与防治教育部 , ; 重点实验室 辽宁阜新 23000 1 天 , , ) 3. 津大学材料科学与工程学院 天津市材料复合与功能化重点实验室 天津 00072 3 : ) 摘 要 在 ( , 水溶液中制备巯基乙酸修饰的 量子点 基于新霉素对 CdTe Ds CdTe Q   , 。 QDs的荧光增敏效应 建立了一种测定新霉素的荧光分析新方法 考察了缓冲体系及 、 、 。 H 值 量子

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