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ファンメカトロニクス事業部 ファインメカトロニクス事業部 大型液晶基板対応洗浄技術 ２００２－１２－４ SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION Fine Mechatronics Division 長山　由紀夫 Ref.ＹＮ021113＃1 本资料由中华液晶资讯网整理，更多专业论文请访问 発表内容 １．ＬＣＤ市場の動向 ２．Wet洗浄技術の大型基板対応 　１）Brush洗浄 　２）Air Knife乾燥 ３．洗浄性能の評価 ４．CONCLUSION 0% 20% 40% 60% 80% 100% Others LTPS OＥＬ Passive LCD PDP TFT 2000 2001 2002 2003 2004 2005 1999 1998 2006 0% 20% 40% 60% 80% 100% Others Game Automobile Monitor Industrial PDA Others Plasma TV LCD TV Mobile Telephone Notebook PC Desktop Monitor 2000 2001 2002 2003 2004 2005 1999 1998 2006 用途 種類 Ｓｏｕｒｃｅ：ＤｉｓｐｌａｙＳｅａｒｃｈＦｏｒｕｍ5/17/02 １．ＬＣＤ市場の動向 ＝ a-Si TFT中心、ＬＴＰＳ?ＯＥＬが参入＝ ＝ Monitor?ＴＶ 需要の増加 ＝　　 １．ＬＣＤ市場の動向 0 200 400 600 800 1000 1200 1400 1600 1800 198８ 1990 1992 1994 1996 1998 2000 2002 2004 2006 Glass面積（ｋｍｍ ２ ） Ｇ1 Ｇ2 730×920 680×880 ５＋ ５ ４ 1000×1200 Ｇ５＋ Ｇ５ 1100×1250 1280×1400 ６ 1350×1650 Ｇ６＋ 2000 Ｇ2.5 Ｇ3 Ｇ3.5 Ｇ3.7 Ｇ４ ６＋ 1400×1850 Ｇ６ 2200 Mother-Glass Size（世代）の変遷 Ｇ７ Brush Shower CJ MHz Shower Air Knife Spin Dry ２． Wet洗浄技術の大型基板対応 第5世代(Ｇ５)　HC-Ⅳ series洗浄装置 技術課題　?処理の均一化 　　　　　 ?高速搬送での乾燥 微粒子汚染除去に用いる洗浄処理Toolの種類 ２． Wet洗浄技術の大型基板対応 Excimer-UV Unit 処理Tool 使用目的 Excimer-ＵＶ Brush ＣＪ(Cavitation Jet) ＭＨｚ-Shower Air Knife 有機物除去 大径粒子除去(約３μｍ↑) 中径粒子除去(約１～５μｍ) 小径粒子除去(約１μｍ↓) 乾　燥 Brush Unit CJ Unit MHz-Shower Unit Air Knife Unit ２． Wet洗浄技術の大型基板対応 １）Brush洗浄 ?Brush-基板間の摩擦力 　　基板Sizeと共に増大。 　　　　　　↓ ?同一条件(押付け量?回転数)で搬送不安定。 　　　　　　↓ ? Brush素線径を細くする。 　（ Brush押付量を維持する） 　　　　　　↓ ? Brushの素線本数を増やす。 　（素線の細径化に伴う洗浄能力維持の為） Brush Unit 基板幅 搬送速度 （１）摩擦力と押付け量の関係 ２． Wet洗浄技術の大型基板対応 1 2 3 1 2 3 Brush押付け量（比率） 基板に作用する力（比率） 新Type 素線径φ0.05mm 従来Type 素線径φ0.07mm Brush 基板 押付け量 摩擦力 基板：1,000×1,200×0.7mm Brush回転数：300r／m １）Brush洗浄 　細素線Brushの洗浄能力は、Brush回転数の影響が少ない。 　　基板単位面積に接触するBrush素線の本数増加が　効果大 （２）洗浄能力の評価 ２． Wet洗浄技術の大型基板対応 基板：1,000×1,200×0.7mm 基板搬送速度：3,000mm/min. 0 20 40 60 80 100 残留Particle数（比率） 従来Type　素線径０.０７mm 新Type　　素線径０.０５mm 基板単位面積に接触するBrush素線数（比率） 100r/m 100r/m 200r/m 300r/m 200r/m 300r/m 400r/m 500r/m 600r/m 600r/m １）Brush洗浄 目的 高速搬送対応 （6,000mm/min.） 検証内容 構造の再構築 （Air風速の均一性） ２． Wet洗浄技術