殷田干膜 讲义 (Chinese).pptVIP

ASAHI D/F formulation -1 旭化成干膜配方法 曝光反應機理 顯影及脫膜反應機理 板表面處理 (全板電鍍前)氈刷輪 + 清水沖洗 +風乾 兩種鍍通孔線路板制作的比較 全板電鍍(厚度 : 10μm) 控制項目: 炭處理：1 次 / 每3個月 全板電鍍的葯水很多時會被敷銅板表面上的污物或從其他途徑來的污物 所污染、被污染的電鍍葯水不能鍍出光亮的表面。 日本的客戶通常每隔3個月為全板電鍍葯水造1次炭處理。 板表面處理 (在干膜貼膜前)氈刷 + 沖水 + 風乾氈刷 +火山灰磨板 + 沖水 + 風乾化學微蝕+ 沖水+ 風乾 氈刷 : #500～#600 氈刷數目 : 上下兩對刷輪（共４支） 壓力電流 : +１Ａ（氈刷力） 轉速 : 1800轉/分鐘 搖擺 : 300次/分鐘 輸送輪速度 : 2.0~2.5米/分鐘 Same direction of after the panel plantings buff roll for this buff roll. 水洗 (第１缸) : 5kg/cm2 (循環水) 水洗 : 多過3個缸(循環水)噴淋壓力：1-２kg/cm2 風乾 : 海綿吸水轆及熱風。通常用2支海綿吸水轆、吹風 量為 4.0－9.0m3/min及熱風的溫度為80℃。 貼膜除塵机 + 預熱机 + 貼膜机 + 收板机 建議在貼膜前板面溫度為50 ±5℃ 溫度低過45℃：干膜的貼服性會降低 溫度高過55℃：干膜容易起皺 前導板溫度 ：50-60℃ 前導板壓力 ：向上面3.5kg/cm２、向下面4.5kg/cm２ 前導板時間 ：2秒 速度 ：2.5±0.5m/min 貼膜後放置時間：15分鐘～3日 熱輪壓力 3.5-7kg/cm2 旭化成的貼膜机是特別設計、故熱輪不易彎曲。 曝光除塵机 + 曝光机 除塵机: 粘附滾輪型及抽吸空氣型 曝光能量在ORC公司的UV-350或UV-351型曝光机、使用亞加力板 下為 Stouffer 21級曝光尺的7-9級、或旭化成27級曝光尺的12-14級。 放置時間 (曝光前及曝光後） 曝光前放置超過3日、干膜的感光度及蓋孔能力會不穩定 曝光後放置少過15分鐘、干膜的感光度會不穩定。放置超過1日、干膜 的附著力及解像度會變差。 顯影自動拉起保護膜机 + 顯影机 (顯影段 + 水洗段 + 乾板段) 顯影溶液 : 碳酸鈉 濃度 : 1 ±0.2% 溫度 : 30±2℃ 噴口類型 : 錐型 噴淋壓力 : 1.5±0.2kg/cm2 顯影容量 : 0.25m2/l (40microns =1.5mil) (破點)最短顯影時間 : 55±5% 除泡劑 : 旭化成ＡＱ203、過慮網20-50ｕｍ (0.8-2 mil) 顯影段長度＝水洗段長度 水洗段: 3個缸 (使用循環水) 噴淋壓力: 1.5±0.2kg/cm2 乾板段: 海綿吸水轆及吹熱風。通常使用２支海綿吸水轆，吹 風量為 4.0-9.0cm3/min 。熱風的設定溫度為50-80℃ 電鍍酸性除油劑 + 微蝕 + 硫酸處理 + 鍍銅 + 鍍錫 酸性除油劑 : Atotech公司的FR或FRX、或硫酸類型的酸性除油劑 濃度及溫度 : 請參考各家除油劑的說明書。 例如：FR10％+硫酸10％、40℃、4分鐘 FRX 7.5％、40℃、4分鐘 微蝕劑 ：過硫酸鈉+硫酸或雙氧水類型 正常條件是過硫酸鈉150g/L, 室溫及1分鐘 硫酸處理　　：正常條件是硫酸150g/l，室溫及2分鐘 鍍銅及鍍錫 ：請留意過鍍問題 控制項目 ：炭處理、銅缸3個月1次,錫缸6個月1次。 脫膜脫膜机(脫膜段 + 酸洗段 + 水洗段 + 干板段) 脫膜溶液 : 氫氧化鈉 (如用氫氧化鉀, 脫膜速度會比較慢） 濃度 : 3±1% 溫度 : 50±5℃ 噴咀類型 : 扇型 噴淋壓力 : 2.0±0.5kg/cm2 脫膜容量 : 0.75m2/L (40 microns = 1.5 mil) 離點（最短脫膜時間）: 55±5% 水洗段 : ３缸(使用循環水洗) 噴咀類型 : 扇型 噴淋壓力 : 1.5±0.2kg/cm2 乾板段 : 海綿吸水轆及吹熱風。通常使用２支海綿吸水轆、吹