协会标准《多晶硅用回收氢气中氯化氢、氮气、氧气、总碳含.docVIP

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  • 2018-12-13 发布于天津
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协会标准《多晶硅用回收氢气中氯化氢、氮气、氧气、总碳含.doc

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协会标准《多晶硅用回收氢气中氯化氢、氮气、氧气、总碳含量的测定 气相色谱法》 ()编制说明 工作简况 立项目的及意义 半导体材料(尤其是集成电路工业)是电子信息产业的基础和核心,是国民经济现代化与信息化建设的先导与支柱产业。半导体硅单晶材料则是半导体工业的最重要的主体功能材料,多晶硅是生产单晶硅的直接原料,是当代人工智能、自动控制、信息处理、光电转换等半导体器件的电子信息基础材料是极为重要的优良半导体材料。 多晶硅的生产技术主要为改良西门子法和硅烷法。西门子法通过气相沉积的方式生产柱状多晶硅,为了提高原料利用率和环境友好,在前者的基础上采用了闭环式生产工艺即改良西门子法。年申请了专利1965年左右实现了工业化。经过几十年的应用和展,西门子法不断完善,先后出现了第一代、第二代和第三代,第三代多晶硅生产工艺即改良西门子法,它在第二代的基础上增加了还原尾气干法回收系统、SiCl4回收氢化工艺,实现了完全闭环生产,是西门子法生产高纯多晶硅技术的最新技术。硅在西门子法多晶硅生产流程内部的循环利用。 干法回收氢中的总碳,氧气,氮气等,氧与硅的亲和力很强,在高温工作条件下极易氧化生成二氧化硅,在多晶硅生产过程中产生加层现象;总碳会造成多晶硅成品中碳含量升高,所以回收氢气的品质控制有重要意义。任务来源 根据国家工信部《关于下达2017年协会标准制修订计划的通知》(中色协科字[2017]8号)文件精神,由新特能源股份有限公司负责修订《多晶硅用回收氢气中氯化氢、氮气、氧气、总碳含量的测定 气相色谱法》,由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会负责归口,计划编号,计划完成时间为201年。 编制单位简况 [简称:]成立于2008年,主要生产、研发、销售高纯多晶硅、多晶硅/单晶硅硅片、高纯四氯化硅、气相二氧化硅等产品,并提供硅产业技术服务,主导产品为多晶硅,目前,多晶硅生产规模达到15000吨/年,居世界前八位,中国前三位。 新特能源坚持机制创新、体制创新、科技创新、管理创新、文化创新的创新求变理念,2012年经新特能源股份有限公司高层领导研究决定在新特能源质检中心的基础上组建了新疆新特新能材料检测中心有限公司,本公司于2013年和2014年两年间相继取得CMA和CNAS资质,本公司实验室有效建筑面积6540m2,其中十万级恒温空间占地6340 m2,千级高洁净间占地756 m2;实验室仪器配置涵盖了气相、液相色谱,光谱、质谱等常规及高尖端分析检测仪器,超洁净的环境、高尖端的设备为无机痕量级分析奠定了基础,这些设备为后续的多晶硅实验检测提供了良好的硬件设施及条件。 主要工作过程 201年月,接到工作计划后,在全国半导体设备和材料标准化技术委员会的组织下,成立了标准编制组,由任组长。标准编制组充分调研了本标准编制的原则和主要内容 标准编制原则 本标准的编写格式按国家标准GB/T1.1-2009《标准化工作导则 第1部分:标准的结构和编写》的统一规定和要求进行编写的; 本标准在制定过程中,以目前并综合考虑了行业的实际需求与未来一段时间内的技术发展要求。 本标准的主要内容 标准主要内容:(范围、(、(、④、⑤,大部分的内容。与,根据使用际需求技术指标上做了优化和调整 2.1 氧气、氮气 标准气体氢气中氧气、氮气测定数据表 序号 检测项目 1 2 3 4 5 6 标准偏差 相对标准偏差 1 氧气 (标准值100ppm) 100.1 100.0 100.2 100.1 100.2 100.1 0.07527 0.000752 2 氮气 (标准值200ppm) 202 201 200 200 203 200 0.983192 0.004896 2.3 总碳 标准气体氢气中甲烷、一氧化碳、二氧化碳测定数据表 序号 检测项目 1 2 3 4 5 6 标准偏差 相对标准偏差 1 一氧化碳 (标准值4.98ppm) 4.96

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