半导体物理本征载流子浓度技术方案.pptxVIP

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  • 2018-05-22 发布于天津
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半导体物理本征载流子浓度技术方案.pptx

半导体物理本征载流子浓度技术方案.pptx

;本征载流子浓度ni与温度T;;3.3.2 本征半导体的费米能级位置;;-例子:n型半导体中的载流子浓度(电中性条件和 Ef);;-例子:n型半导体中的载流子浓度(不同温区的讨论);-例子:n型半导体中的载流子浓度(不同温区的讨论);-例子:n型半导体中的载流子浓度(不同温区的讨论);;-小结;;;电中性条件;;;;;-多种施主、多种受主并存;;;?η;;;3.5.4 简并时杂质的电离;例: 在室温下,锗的有效态密度Nc=1.05?1019cm-3,NV=3.9?1018cm-3, (1)试求锗的载流子有效质量m*n,m*p。 (2)计算77K时的NC 和NV。 已知300K时,Eg=0.67eV。77k时Eg=0.76eV。求这两个温度时锗的本征载流子浓度。 (3) 77K时,锗的电子浓度为1017cm-3 ,假定受主浓度为零,而Ec-ED=0.01eV,求锗中施主浓度ND为多少?;例: 计算含有施主杂质浓度为ND=9?1015cm-3,及受主杂质浓度为1.1?1016cm3,的硅在300K时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置。 ; 例: 掺有浓度为每立方米为1.5?1023砷原子 和立方米5?1022铟的锗材料,分别计算①300K;②600K时费米能级的位置及多子和少子浓度(本征载流子浓度数值查图3-7)。 ;

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