有机合成中的保护基 有机合成化学课件知识介绍.pptVIP

有机合成中的保护基 有机合成化学课件知识介绍.ppt

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有机合成中的保护基 有机合成化学课件知识介绍.ppt

第六章 有机合成中的保护基; 将不希望发生反应的部位保护起来成为衍生物形式,待达到目的后再恢复到原来的官能团。; 选择性地、容易地与被保护的基团反应,达到高的转化率。 与保护基反应后所生成的结构部分在其他官能团的反应过程中是稳定的,保护基不会受破坏。 当反应结束后,可以方便地裂解脱去,脱去的保护基易于从反应物中分离除去。 同时需要考虑到所用的保护基是容易得到的,反应易操作,少污染等因素。;Contents;核苷、糖类、甾体、氨基酸或多肽等带羟基的化合物 进行氧化、酰化、卤化、水解等反应时,需要对羟基加以保护。;甲醚在pH= 1-14范围是稳定的,强碱、亲核试剂、氧化剂、有机金属试剂、催化氢化、氢化物还原剂等均不受影响。 ;2. 苄醚 BnOR, PhCH2OR 保护 氯苄或溴苄与羟基经烷基化反应制备 ;3. 取代苄醚——三苯甲基醚 TrOR, Ph3COR 主要用于糖类、核苷和核酸类化合物中的羟基的保护,对碱性条件和亲核试剂稳定,在酸性条件下脱除 优点:位阻较大,比较容易与羟基反应也容易脱除 ;II. 去保护 酸性条件下 (1) 80% HOAc (2) 20%CF3COOH,CH2Cl2 (3)HCOOH,Et2O ;4. 甲氧基甲醚(MeOCH2OR,MOMOR) 甲氧基取代的甲基醚, 保护后——缩甲醛的结构 保护 氯甲基甲醚或甲醛缩二甲醇将羟基甲基化 ;II. 稳定性 在pH = 4-12稳定,对于亲核试剂、有机金属试剂、氢化物还原剂,催化氢化,以及氧化剂是稳定的 III. 去保护 HCl/MeOH; HCl/THF; H2SO4/HOAc ;5. 硅烷基醚(R3SiOR) ;(1)三甲基硅醚(Me3SiOR,TMSOR) 最简单的硅醚保护基 保护 Me3SiCl, (Me3Si)2NH, (Me3Si)2O, (NHSiMe3)2C=O 等试剂进行硅烷化反应 ;II. 稳定性 遇水即分解;亲核试剂,氢化反应,氢化物还原有影响 III. 去保护 遇水即分解,一般用酸或碱水解。 氟化钾、甲醇-水 四丁基氟化铵/THF非质子体系;(2)三异丙基硅醚,TIPSOR;(3)叔丁基二甲基硅醚(TBDMSOR);II. 稳定性: PH=4-12稳定,亲核试剂,有机金属试剂,氢化还原和氧化 III. 去保护: 氟化试剂:氟化氢水溶液,氟化四丁胺(TBAF) ;7.1.2 酯类保护基;乙酸酯(AcOR) 乙酰化: 用醋酸酐与醇反应制得 去保护: 甲醇钠/甲醇或氨/甲醇;苯甲酸酯???PhCOOR) 保护:苯甲酰氯在碱性条件下与羟基反应制得 稳定性:比乙酸酯稳定, 去保护:酸或碱水解,或氢化铝锂还原法;7.1.3 二醇的保护;7.2 醛、酮的保护;7.2.1 缩醛,缩酮;缩二甲醇;1,2-二醇,1,3-二醇 与醛或酮形成五元环或六元环,比较稳定 在氢化铝锂还原条件下稳定 酸性条件下去保护;二硫代缩醛、缩酮 保护:醛酮在酸催化下与两分子的硫醇反应,硫代缩醛、缩酮, 常用催化剂:三氟化硼-乙醚,氯化锌,三氟醋酸锌 稳定性:对酸稳定性好,pH = 1-12稳定,耐金属试剂、亲核试剂和部分氧化剂,但容易使金属催化剂中毒,不宜用于催化氢化反应中; 去保护:氯化汞水溶液,银盐,铜盐,钛盐等催化水解,N-溴带丁二酰亚胺,I2/DMSO;7.3 氨基的保护;7.3.1 N-烷基化和N-三烷基化保护;硅烷胺(N-SiR3) 比如:三甲基硅基 条件:三甲基氯硅烷在三乙胺(吡啶)存在下与胺反应。 稳定性:遇水,醇分解。;7.3.2 N-酰化保护;三氟乙酰基,CF3CO-;苯甲酰基, PhCO- 保 护:苯甲酰氯+ 有机碱(三乙胺,吡啶)+胺 去保护:6N盐酸(溴化氢的乙酸溶液) 氢氧化钠浓碱溶液 稳定性: pH= 1-14 亲核试剂,有机金属试剂(有机锂除外) 催化氢化,氢化物还原;7.3.3 氨基甲酸酯 (CH3)3OC(O)NR2, R2NBoc;基本方法:形成酯 保护基团:叔丁基, 苄基,甲基,乙基,三甲硅基;7.4 其他基团的保护

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