低温沉积ZnO薄膜的压敏特性及其热处理影响.pdfVIP

第 27 卷 　第 10 期 半 　导 　体 　学 　报 Vol . 27 　No . 10 2006 年 10 月 C H IN ES E J O U RN AL O F S EM I CON D U C TO RS Oct . ,2006 低温沉积 ZnO 薄膜的压敏特性及其热处理影响 夏姣贞 　陆 　慧 　王 　璞 　徐晓峰 　杜明贵 (华东理工大学物理系 , 上海 　200237) 摘要 : 采用 GDA R E 法在较低温度下 ,通过一次和多次沉积制备单层及多层 ZnO 薄膜. A FM 和 XRD 分析表明 ,薄 膜具有以 ZnO (002) 晶面取向为主的多晶结构 ,多层膜的晶粒尺寸增大. 经 200～300 ℃退火热处理 ,薄膜呈现出良 好的低压压敏特性. 经 200 ℃退火热处理后 ,多层 ZnO 薄膜的非线性系数达到 6 154 ,压敏电压 20 10V . 在一定范