PECVD测试题.docVIP

一 选择题 （4个选项中只有一个是正确的，请将正确答案填入括号内,每题5分） 1 PECVD工序的目的是为了在硅表面形成一层致密的薄膜，薄膜的组成部分主要是（ A） A.氮化硅 B.氧化硅 C.五氧化二磷 D.磷硅玻璃 2 PECVD的反应气体中含有氨气（NH3），在形成等离子体后H离子的主要作用是（ D） A.形成薄膜 B.控制薄膜的折射率 C.控制薄膜的厚度 D. 硅片的表面钝化 3 PECVD工艺完成后，硅片表面的镀膜颜色发白，下列哪些措施可以缓解这种情况（D ） A增加温度 B增加镀膜时间 C增加NH3流量 D减少压力 4 下列哪些对硅烷的描述是错误的（D ） A在空气中可以自然 B可以与氯、氟发生剧烈反应 C 吸入后会引发头晕、恶心 D硅烷引起的燃烧可用水来熄灭 5 下列哪些对氨气的描述是错误的（C ） A 与空气混合会形成爆炸性气体 B低浓度的氨气对粘膜有刺激性作用 C皮肤接触后可以用酒精擦拭 D 吸入氨气后应离开现场至空气新鲜处 二 填空题 每题5分 1 当石墨舟使用了一段时间后，表面沉积了很厚的 氮化硅 ，影响舟壁与 硅片 的接触，从而影响镀膜的质量，因此要进行石墨舟的清洗。 2 向清洗机一侧的槽内加入一定量的 氢氟酸 ，适量加入纯水使液面高度大约在30—40cm，并向另一侧的槽加入纯水。 3 Si3N4膜的颜色