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等离子体显示器件中氧化镁膜的制备和测试

第 5 期                   真 空  VACUUM 2001 年 10 月 7 等离子体显示器件中氧化镁膜的制备和测试 1 1 2 2 赵 来 , 查良镇 , 范垂祯 , 许 生 ( 1 清华大学电子工程系, 北京 100084;  2 深圳豪威真空光电子股份有限公司, 广东 深圳 518057) 摘 要: 等离子体显示器(PD P ) 是最有发展前景的新一代显示器件,M gO 膜是其制造工艺中的一个瓶颈。本 文结合 PD P 的发展, 综述了近年来M gO 膜层镀制与测试工艺的进展, 讨论了PD P 对保护膜性能的要求。 PD P 市场的进一步扩大亟需在生产上建立一个能取得共识的对M gO 膜层性能进行评价的标准。 关键词:M gO ; 镀膜; 测试 中图分类号: TN 141. 5    文献标识码: A     文章编号:(2001) D eposition and testing of M gO th in f ilm for pla sma d isplay panel 1 1 2 2 , , , ZHAO L ai ZHA L iang zhen FAN Chu i zhen XU Sheng (     1 , , 100084, ; D ep a rtm en t of E lectron ic E ng ineering T sing hua U n iversity B eij ing Ch ina 2 . , , 518057, ) S henz hen H IV A C V acuum P hoto electrics Co L td S henz hen Ch ina : ( ) . , Abstract P lasm a disp lay panel PD P is one of the mo st p rom ising generation of disp lay devices How ever depo sition of . , M gO is the bo ttleneck in the p roduction p rocess Based

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