阻垢剂成份 2.docVIP

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阻垢剂成份 2

EDTMPS用于循环水和锅炉水的缓蚀阻垢剂、无氰电镀的络合剂、纺织印染行业螯合剂和氧漂稳定剂。 技术指标 项 目 指 标 外 观 黄棕色透明液体 活性组分(以EDTMPS计)% ≥ 28.0 有机膦(以PO4 计)% ≥ 10.0 亚磷酸(以PO3计)% ≤ 5.0 磷酸(以PO4计)% ≤ 1.0 PH值(1%水溶液) 9.5-10.5 密度(20℃)g/cm ≥ 1.25 氯化物 (以Cl计)% ≤ 3.0 在循环冷却水中单独投加时,一般剂量2~10mg/L。EDTMPS与HPMA按1:3比例复配后,可用于低压锅炉炉内水处理。EDTMPS也可与BTA、PAAS、锌盐等复配使用。 EDTMPS用塑料桶包装, 每桶25kg或根据用户需要确定。贮于室内阴凉处,贮存期六个月。 EDTMPS为弱碱性,操作时注意劳动保护,应避免与皮肤、眼睛等接触,接触后应立即用大量清水阻垢缓蚀剂 编辑 阻垢缓蚀剂是由有机膦、优良共聚物及铜缓蚀剂等组成,对碳钢、铜及铜合金都具有优良缓蚀性能,对碳酸钙、磷酸钙有卓越的阻垢分散性能。本品主要用于敞开式循环冷却水处理系统,对含铜设备的系统特别适合。本品可用于高pH、高碱度、高硬度的水质,是目前较理想的不调pH碱性运行的水处理剂之一。 目录 1分类 ? 氨基三甲叉膦酸ATMP ? 羟基乙叉二膦酸 HEDP ? 乙二胺四甲叉膦酸钠 EDTMPS ? DTPMPA ? 多元醇磷酸酯 PAPE 2常见配方 1分类 编辑 阻垢缓蚀剂种类繁多,通常是一些结构特别化合物的复配,且要根据金属表面状况、腐蚀介质组成及运行情况等因素进行种类选择。在水处理中常用的阻垢剂有无机聚磷酸盐、有机膦酸、膦羧酸、有机膦酸脂、聚羧酸等。 阻垢缓蚀剂的类别有很多,兼具缓蚀与阻垢功能的产品主要有: 有机磷类阻垢缓蚀剂:如ATMP、HEDP、DTPMPA、EDTMPS、HPAA等; 另外少量的聚合物也含有一定的阻垢缓蚀功能,如膦酰基羧酸共聚物、绿色阻垢缓蚀剂PESA、PASP等。 阻垢缓蚀剂主要应用于工业循环水系统如电厂、钢铁厂、化肥厂、油田注水系统等等。一般的终端用户使用单一药剂作为阻垢缓蚀剂的不多,要根据系统情况设定方案,投加专用的缓蚀阻垢剂。 另外还有很多专用的缓蚀剂,如MBT(铜缓蚀剂)、BTA、TTA、以及盐酸酸洗缓蚀剂等。 氨基三甲叉膦酸ATMP ATMP具有良好的螯合、低限抑制及晶格畸变作用。可阻止水中成垢盐类形成水垢,特别是碳酸钙垢的形成。 缓蚀阻垢剂 ATMP在水中化学性质稳定,不易水解。在水中浓度较高时,有良好的缓蚀效果。 ATMP用于火力发电厂、炼油厂的循环冷却水、油田回注水系统。可以起到减少金属设备或管路腐蚀和结垢的作用。ATMP在纺织印染等行业用作金属离子螯合剂,也可用于金属表面处理剂等。 ATMP固体为结晶性粉末,易溶于水,易吸潮,易于运输和使用,尤其适用于冬季严寒地区。由于纯度较高,可用作纺织印染行业的金属螯合剂及金属表面处理剂。 羟基乙叉二膦酸 HEDP HEDP是一种有机磷酸类阻垢缓蚀剂,能与铁、铜、锌等多种金属离子形成稳定的络合物,能溶解金属表面的氧化物。HEDP在250℃下仍能起到良好的缓蚀阻垢作用,在高pH值下仍很稳定,不易水解,一般光热条件下不易分解。耐酸碱性、耐氯氧化性能较其它有机磷酸(盐)好。HEDP可与水中金属离子,尤其是钙离子形成六圆环螯合物,因而HEDP具较好的阻垢效果并具明显的溶限效应,当和其它水处理剂复合使用时,表现出理想的协同效应。 HEDP固体属于高纯产品,适用于冬季严寒地区;特别适用于电子行业的清洗剂和日用化学品添加剂。 HEDP广泛应用于电力、化工、冶金、化肥等工业循环冷却水系统及中、低压锅炉、油田注水及输油管线的阻垢和缓蚀;HEDP在轻纺工业中,可以作金属和非金属的清洗剂,漂染工业的过氧化物稳定剂和固色剂,无氰电镀工业的络合剂。HEDP作阻垢剂一般使用浓度1~10mg/L,作缓蚀剂一般使用浓度10~50mg/L;作清洗剂一般使用浓度1000~2000mg/L;通常与聚羧酸型阻垢分散剂配合使用。 HEDP液体用塑料桶包装,每桶30Kg或250Kg;HEDP固体用内衬聚乙烯袋的塑料编织袋包装,每袋净重25kg,也可根据用户需要确定。贮于室内阴凉通风处,防潮,贮存期十个月。 HEDP为酸性,应避免与眼睛、皮肤接触,一旦溅到身上,应立即用大量水冲洗。 乙二胺四甲叉膦酸钠 EDTMPS Ethylene Diamine Tetra (Methylene Phosphonic Acid) Sodium 别名:乙二胺四亚甲基膦酸钠、乙二胺四亚甲基磷酸、乙二胺四甲叉磷酸 CAS No. 1429-50-1 分子式 C6H12O12N2P4Na8 相对分子质量:612.13 EDTMPS是含氮有机多元

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