高速钢磁控溅射离子镀TiN涂层的性能研究.docVIP

------------------------------------------------------------------------------------------------ —————————————————————————————————————— 高速钢磁控溅射离子镀TiN涂层的性能研究 材料热处理技术Ｍａｔｅｒｉａｌ＆Ｈｅａｔ Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ ２００９年８月 高速钢磁控溅射离子镀ＴｉＮ涂层的性能研究 张宁蛐 （１．徐州工程学院信电学院，江苏徐州２２１００８；２．中国矿业大学化工学院，江苏徐州２２１００８） 摘要：通过磁控溅射离子镀方法（ＭＳ口）对高速钢Ｗ１８Ｃｒ４Ｖ进行镀ＴｉＮ膜，采用Ｄ／ＭＡＸ—ＩＩＩＢ型Ｘ射线衍射仪、膜厚测量仪、ＨＶ．１０００昆微维氏硬度计、ＬＫＤＭ－２０００型摩擦磨损仪和Ｓ一３０００Ｎ型扫描电子显微镜对经表面改性过的试样组织、膜厚、硬度和耐磨性进行研究，并对镀膜时间、氮分压和溅射电流等工艺参数对ＴｉＮ涂层的组织、厚度、硬度和耐磨性的影响进行分析。确定了镀膜层综合性能最好的工艺方案。 关键词：磁控溅射离子镀；高速钢Ｗ１８Ｃｒ４Ｖ；ＴｉＮ 中图分类号：ＴＧｌ７４．４４ 文献标识码：Ａ 文章编号：１００１．３８１４（２００９）１６．０１０４．０３ Ｓｔｕｄｙ ｏｎ ＰｒｏｐｅｒｔｙｏｆＨｉｇｈ—ｓｐｅｅｄＳｔｅｅｌＤｅｐｏｓｉｔｅｄＴｉＮＣｏａｔｉｎｇｓｂｙ ＭａｇｎｅｔｒｏｎＳｐｕｔｔｅｒＩｏｎＰｌａｔｉｎｇ Ｎｉｎ９１’２ ＺＨＡＮＧ （１．ＸｕｚｈｏｕＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｘｕｚｈｏｕ２２１００８，Ｃｈｉｎ叫＂２．Ｓｃｈｏｏｌ矿ＣｈｅｍｉｃａｌＥｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，ＣＵＭＴ，Ｘｕｚｈｏｕ２２１００８，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：ＴｉＮｃｏａｔｉｎｇｓｗｅｒｅｄｅｐｏｓｉｔｅｄｂｙ ｍａｇｎｅｕｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｏｎｐｌａｔｉｎｇ（ＭＳｎ＇）ｏｎｔｈｅｓｕｒｆａｃｅｏｆｈｉｇｈ－ｓｐｅｅｄｓｔｅｅｌ ｍｏｄｉｆｉｃａｔｉｏｎｓａｍｐｌｅ Ｗ１８Ｃｒ４Ｖ．Ｔｈｅｍｉｅｒｏｓｔｍｃｔｕｒｅ，ｃｏａｔｉｎｇ ｗｅｒｅｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｅｄｂｙｔｈｅ ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ，ｍｉｃｒｏ－ｈａｒｄｎｅｓｓａｎｄｗｅａｌ＂ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅｏｆｓｕｒｆａｃｅ Ｄ／ＭＡＸ－ＩＩＩＢＸＲＤｔｅｓｔｅｒ，ｔｈｅｃｏａｔｉｎｇｔｈｉｃｋｎｅｓｓｔｅｓｔｅｒ，ｔｈｅＨＶ一１０００ｍｉｃｒｏ－ｓｃｌｅｒｏｍｅｔｅｒ，ｔｈｅ ＬＫＤＭ一２０００ｆｉ＇／ｃｔｉｏｎａｎｄｗｅａｌ＂ｔｅｓｔｅｒ，ｔｈｅＳ－３０００ＮＳＥＭ．Ｔｈｅｉｎｆｌｕｅｎｃｅｏｆｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇｔｉｍｅ，Ｎ２ｐａｒｔｉａｌｐｒｅｓｓｕｒｅｓａｎｄ ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇａｌｓｏ ｃｕｒｒｅｎｔ ｏｎ ｔｈｅ ｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅ，ｃｏａｔｉｎｇｔｈｉｃｋｎｅｓｓ，ｍｉｃｒｏ—ｈａｒｄｎｅｓｓａｎｄＷｅａｌ＂ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅｏｆＴｉＮｃｏａｔｉｎｇｓｗｅ糟 ｂｅｓｔ ａｎａｌｙｓｅｄ．Ｔｈｅｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｃｓｃｈｅｍｅｏｆｓｙｎｔｈｅｓｉｚｉｎｇ ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇｃｏａｔｉｎｇｓｗａｓｅｓｔａｂｌｉｓｈｅｄ． Ｋｅｙｗｏｒｄｓ：ｍａｇｎｅｔｒｏｎｓｐｕｔｔｅｒｉｏｎｐｌａｔｉｎｇ（ＭＳＩＰ）；ｈｉｇｈ－ｓｐｅｅｄｓｔｅｅｌＷ１８Ｃｒ４Ｖ；ＴｉＮ 随着切削条件的改善，切削加工不断向高速、高精度方向发展，改善高速钢刀具的切削性能、提高效率、延长使用寿命一直是人们关注的问题。ＴｉＮ膜具有高硬度、高耐磨性和高耐腐蚀性的优点．是理想的刀具涂覆膜层。采用磁控溅射离子镀方法镀覆ＴｉＮ膜，具有速度快、基体温升小、镀膜质量高和便于大规模生产的优点，但存在着工艺控制难度大的缺点哪。因此本文采用磁控溅射离子镀方法（ＭＳＩＰ）对高速钢进行ＴｉＮ镀膜，研究氮分压、溅射电流和镀膜时间等工艺参数对ＴｉＮ涂层的膜厚、硬度和耐磨性的影响，从而提高高速钢刀具的表面硬度和耐磨性。延长其使用寿命。 ６１０ｍｍｘｌＯｍｌｎ．共１５块，所有试样表面经砂轮、粗、细砂纸打磨，抛光呈镜面状，然后分别在清洗液、丙酮、酒精中超声波清洗各３０ｒａｉｎ。烘干后放人干燥箱。将待镀膜试样分４组，每组３块，在核西南物理研究所研制的磁控溅射离子镀膜机中进 行镀膜，具体工艺为：样品在镀膜室内心离子溅 射清洗５ｍｉｎ后开始沉积