DM—镀膜机.docVIP

???????? 实验原理 真空镀膜是将固体材料置于真空室内，在真空条件下，将固体材料加热蒸发，蒸发出来的原子或分子能自由地弥布到容器的器壁上。当把一些加工好的基板材料放在其中时，蒸发出来的原子或分子就会吸附在基板上逐渐形成一层薄膜。 真空镀膜有两种方法,一是蒸发,一是溅射。本次实验采用蒸发方法。在真空中把制作薄膜的材料加热蒸发，使其淀积在适当的表面上。 ???????? 真空系统(DM—300镀膜机) ???????? 蒸发源 蒸发源的形状如下图，大致有螺旋式(a)、篮式(b)、发叉式(c)和浅舟式(d)等 ???????? 蒸发源选取原则 1 有良好的热稳定性，化学性质不活泼，达到蒸发温度时加热器本身的蒸汽压要足够底。 2 蒸发源的熔点要高于被蒸发物的蒸发温度。加热器要有足够大的热容量。 3 蒸发物质和蒸发源材料的互熔性必须很底，不易形成合金。 4 要求线圈状蒸发源所用材料能与蒸发材料有良好的浸润，有较大的表面张力。 5 对于不易制成丝状、或蒸发材料与丝状蒸发源的表面张力较小时，可采用舟状蒸发源。 ???????? 薄膜厚度分布 设蒸发源为点蒸发源，单位时间内通过任何方向一立体角dω的质量为： 蒸发物质到达任一方向面积元ds质量为： 设蒸发物的密度为ρ，单位时间淀积在ds上的膜厚为t，则 比较以上两式可得： 对于平行平面ds，φ=θ，则上式为： 由： 可得在点源的正上方区域(