半导体物理学 第七版 刘恩科编著 第七章习题2.pptVIP

第七章 金属和半导体的接触 1 什么是功函数？哪些因素影响了半导体的功函数？什么是接触势差？ 功函数是指真空电子能级E0与半导体的费米能级EF之差。 影响功函数的因素是掺杂浓度、温度和半导体的电子亲和势。 接触势则是指两种不同的材料由于接触而产生的接触电势差。 2 什么是Schottky势垒？影响其势垒高度的因素有哪些？ 金属与n型半导体接触形成阻挡层，其势垒厚度随着外加电压的变化而变化，这就是Schottky势垒。 影响其势垒高度的因素是两种材料的功函数，影响其势垒厚度的因素则是材料（杂质浓度等）和外加电压。 3 什么是欧姆接触？形成欧姆接触的方法有几种？试根据能带图分别加以分析。 欧姆接触是指其电流-电压特性满足欧姆定律的金属与半导体接触。 形成欧姆接触的常用方法有两种，其一是金属与重掺杂n型半导体形成能产生隧道效应的薄势垒层，其二是金属与p型半导体接触构成反阻挡层。其能带图分别如下： 4 什么是镜像力？什么是隧道效应？它们对接触势垒的影响怎样的？ 金属与半导体接触时，半导体中的电荷在金属表面感应出带电符号相反的电荷，同时半导体中的电荷要受到金属中的感应电荷的库仑吸引力，这个吸引力就称为镜像力。 能量低于势垒顶的电子有一定几率穿过势垒，这种效应就是隧道效应。隧道穿透的几率与电子的能量和势垒厚度有关。 在加上反向电压时，上述两种效应将使得金属一边的势垒降低