立方氮化硼薄制备与表征.docVIP

立方氮化硼薄膜的制备与表征 薄膜物理/技术在基础研究和应用研究两方面都有很重要的意义，因为：1）各种材料的薄膜（两维体系）往往都表现出与其体材料（三维体系）不同的性质；2）实际中的很多应用（如光学薄膜、各种保护膜等）往往只对材料表面的性质有要求（通过镀膜即可实现）。薄膜物理/技术的研究对象是薄膜、衬底和它们之间的界面，主要内容包括能满足特定需要的镀膜设备的构建、镀膜过程的控制和薄膜性能的表征等。 立方氮化硼是硬度仅次于金刚石的超硬材料，因其特殊的物理化学性能，有非常广泛的应用前景。近年来，人们对立方氮化硼薄膜进行了大量的深入研究，也取得了不少可喜的进展；但由于薄膜的稳定性等原因，人们期盼的大面积的应用仍未实现。 由于立方氮化硼薄膜生长对实验参数有很严格的要求，薄膜的表征又需要有若干相关的表面分析的基础知识，本实验旨在让学生通过实验准备及随后的实际操作过程中可以深入地了解和掌握下列相关知识和技术：高真空技术，等离子体物理，薄膜制备与监控，离子与固体表面的相互作用和表面分析等，从而拓展自己的知识面，培养对有关工作兴趣，并为将来的研究工作打下较好的基础。 一、背景知识 立方氮化硼（c-BN）是一种人工合成的强度仅次于金刚石的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料，具有宽带隙、低介电常数、高化学稳定性（优于金刚石）、耐高温耐腐蚀等诸多优异性能，此外相比于金刚石，c-BN还具有可进行p型和n型掺杂等优点，