薄膜物理与技术精品课件（史鹏）CH4-4 optical pro.pptVIP

* * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * * 间接跃迁 若导带底和价带顶位于k空间的不同位置，例如在Si和Ge中，那么任何竖直跃迁所吸收的光子能量都应该比禁带宽度大。 但实验指出，引起本征吸收的最低光子能量还是约等于Eg。 推论：除了竖直跃迁之外，还存在另一类跃迁过程：由价带顶向具有不同ｋ值的导带底的跃迁。 4、薄膜的吸收与散射 4.4.2 光学薄膜的基本性能 在这种跃迁过程中，电子的准动量变化很大。由于光子的动量很小，所以必须吸收或发射声子才能满足准动量守恒。设声子的波矢为ｑ，略去光子的动量，准动量守恒由下式给出： ? 如果用ＥＰ表示声子的能量，则能量守恒可表示为 光子波矢 电子波矢 4、薄膜的吸收与散射 4.4.2 光学薄膜的基本性能 吸收系数 在以上二式中，正号和负号分别对应于吸收和发射声子的过程。 这种除了吸收光子之外还要吸收或发射声于的跃迁，称为间接跃迁或非竖直跃迁。相应的材料称为间接能隙半导体材料。 由于声子的能量很小，一般不超过百分之几电子伏特，所以间接带间跃迁所涉及的光子能量仍然接近禁带宽度。 4.4.2 光学薄膜的基本性能 吸收谱线 不难看出，如果以 为纵坐标，以光子能量为横坐标，则吸收谱线应为两条直线 对应横坐标上的两个截距，分别为Eg-Ep和Eg+Ep。 由此可以求出禁带宽度和声子的能量。 4、薄膜的吸收与散射 4.4.2 光学薄膜的基本性能 4.4.3 光学薄膜的测量技术 薄膜光学参数(n和d)测试； 薄膜透射光谱测试； 薄膜反射光谱测试； 光学损耗(吸收和散射)检测技术。 一、 薄膜光学参数测试-n和d 设计光学薄膜器件时采用块状体材料的折射率； 制备工艺条件对其折射率影响比较大； 因此需要详细确定薄膜n在不同工艺条件下的值； 折射率表现出的性质： 常用测量方法 折射率随厚度的变化，即折射率的各向异性； 折射率的微弱吸收(很小的吸收系数k)； 消光系数的不均匀性与各向异性； 光度法：根据反射率或透射率来确定n； 椭圆偏振法：利用偏振光的偏振性能来确定； 布儒斯特角法：利用布儒斯特原理来测试。 4.4.3 光学薄膜的测量技术 基本原理 对于理想光学薄膜，光学厚度为λ/2的整数倍处，透射率和反射率等于光洁基板的值； 而在薄膜光学厚度为λ/4 时，反射率正好是极值； 如果薄膜折射率nfns，反射率将是极小值； 如果薄膜折射率nf＞ns，反射率将是极大值； T, R 一、 薄膜光学参数测试-n和d 4.4.3 光学薄膜的测量技术 1. 光度法测薄膜-n和d Glass/10H/Air 膜系对应的曲线 H=Al2O3 位相厚度为该波长的π/2的奇数倍时 位相厚度为该波长的π/2的偶数倍时 从相邻的极值波长中可以求得薄膜的几何厚度； 设λ1和λ2是两个相邻的极值波长(λ1＞λ2): 可得： 4.4.3 光学薄膜的测量技术 1. 光度法测薄膜-n和d 4.4.3 光学薄膜的测量技术 2. 椭圆偏振法测薄膜-n和d 4.4.3 光学薄膜的测量技术 2. 椭圆偏振法测薄膜-n和d 4.4.3 光学薄膜的测量技术 2. 椭圆偏振法测薄膜-n和d 椭圆偏振仪实物图 待测样品 nB低 nA高 I0 暗 亮 4.4.3 光学薄膜的测量技术 3.布儒斯特法测薄膜-n 二、 光谱分析技术测试薄膜透射和吸收 4.4.3 光学薄膜的测量技术 性能 Lamda 900PE Cary 5000 岛津UV 365 Hitachi 4100 光谱 175～3330 175～3330 190～2500 185～3330 分辨率 0.08nm 0.1nm 0.1nm 0.1nm 透射精度 0.00008 0.0003 0.001 0.0003 反射测试 可以 可以 可以 偏振测试 可以 可以 可以 几种光谱分析仪器比较 紫外-可见光分光光度计 红外吸收光谱 Raman光谱 椭偏仪 二、 光谱分析技术测试薄膜透射和吸收 4.4.3 光学薄膜的测量技术 分子中的某些基团吸收了紫外可见辐射光后，发生了电子能级跃迁，而产生了相应的吸收光谱。属分子吸收光谱。 紫外-可见吸收光谱分析是研究物质在紫外-可见光波下的分子吸收光谱的分析方法。 紫外-可见区可细分为： （1）10-200nm；远紫外光区 （2）200-400nm；近紫外光区 （3）400-800nm；可见光区 紫外吸收光谱 4.4.3 光学薄膜的测量技术 紫外—可见分光光度计 4.4.3 光学薄膜的测量技术 分子中基团的振动和转动能级跃迁产生：振-转光谱 辐射→分子振动能级跃迁→红外光谱→官能团→分子结构 4.4.3