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简述薄膜在形成稳定核之前的生长过程?
沉积原子到达基片表面,会发生三种状态。一种是能量较大,在到达基片表面时就会发生反射离开;如果能量较低,变会停留在基片表面,而另一部分原子能量较大,在到达基片表面时,会发生表面迁移扩散。如果扩散原子在驻留时间内不能与其它原子结合形成更大原子团,就会发生再蒸发离开基片表面,而扩散原子团在驻留时间内不能与其它原子相结合,便会发生分解。如果表面原子或原子团在驻留时间内能与其它原子结合,便形成更大原子团;原子团继续吸附其它原子就会不断长到形成稳定核。
从热力学角度分析,薄膜的形核主要分哪两类?形成机制是什么?
从热力学角度,形核主要分:自发形核和非自发形核;
自发形核主要是由于相变自由能差导致的,而非自发形核不但受到相变自由能差的影响,还受到其它一些因素的影响,如界面,缺陷等。
简述扫描电子显微镜的成像原理?X射线衍射技术的基本原理?
扫描电子显微镜:入射电子激发样品表面产生二次电子,由于样品表面起伏变化造成二次电子发射数目和发射角度的不同,从而形成明暗相间的衬度像。
X射线衍射技术:布拉格衍射公式。
简述四种薄膜的成份分析方法?
X射线能量色散谱(EDX);2.电子探针(EPMA);3. 俄歇电子能谱(AES);4. X射线光电子谱(XPS);5. 卢瑟福背散射(RBS); 6. 二次离子质谱(SIMS)。 任意四种。
薄膜的组织结构可以分为哪四类?
无定型结构; 2. 多晶结构; 3. 纤维结构; 4. 单晶结构;
列举出连续薄膜形成的三种重要影响机制?
奥斯瓦尔德吞并机制、熔结机制、原子团迁移机制。
下列描述不属于薄膜组织结构的是 ()
(1)无定形结构 (2)多晶结构(3)单晶结构 (4)复合结构
下列仪器设备不能用于薄膜表面形貌分析的是:
(1)扫描电子显微镜 (2)原子力显微镜 (3)透射电子显微镜 (4)X射线衍射
B卷:
简述薄膜的生长过模式及主要的控制因素?
生长模式:岛状生长模式、层状生长模式和岛状-层状生长模式;
控制因素主要分两类:晶格失配度和基片表面(或者基片湿润性或浸润性);
从沉积速率和沉积温度出发,简述如何形成单晶或者粗大晶粒?如何形成多晶、微晶甚至非晶?请给出简单图示?
提高温度或降低沉积速率可以形成单晶或者粗大晶粒;
降低温度或提高沉积速率可形成多晶、微晶甚至非晶。
简述基片主要分为哪三大类?简述Si基片的清洗方法?
单晶基片、多晶基片和非晶基片;
将Si基片分别放入丙酮、酒精和去离子水进行超声清洗;之后放硫酸和磷酸混合液中一段时间,去除基片表面的油污及其它污染物;最后用去离子水清洗;
列出四种薄膜的表面形貌分析方法?
扫描电子显微镜;原子力显微镜;扫描隧道显微镜;透射电子显微镜;
列出两种薄膜结构分析方法?并简述其中一种的工作原理?
1. 透射电子显微镜:电子束穿过很薄样品并于样品原子点阵发生相互作用。
2. X射线衍射技术:布拉格衍射公式。
简述薄膜外延生长的概念?影响实现外延生长三个主要因素?
在单晶基片上延续生长单晶薄膜的方法称为外延生长;
温度、沉积速率、单晶基片;
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