薄膜物理与技术精品课件（史鹏）简述薄膜生长试题.docVIP

简述薄膜在形成稳定核之前的生长过程？ 沉积原子到达基片表面，会发生三种状态。一种是能量较大，在到达基片表面时就会发生反射离开；如果能量较低，变会停留在基片表面，而另一部分原子能量较大，在到达基片表面时，会发生表面迁移扩散。如果扩散原子在驻留时间内不能与其它原子结合形成更大原子团，就会发生再蒸发离开基片表面，而扩散原子团在驻留时间内不能与其它原子相结合，便会发生分解。如果表面原子或原子团在驻留时间内能与其它原子结合，便形成更大原子团；原子团继续吸附其它原子就会不断长到形成稳定核。 从热力学角度分析，薄膜的形核主要分哪两类？形成机制是什么？ 从热力学角度，形核主要分：自发形核和非自发形核； 自发形核主要是由于相变自由能差导致的，而非自发形核不但受到相变自由能差的影响，还受到其它一些因素的影响，如界面，缺陷等。 简述扫描电子显微镜的成像原理？X射线衍射技术的基本原理？ 扫描电子显微镜：入射电子激发样品表面产生二次电子，由于样品表面起伏变化造成二次电子发射数目和发射角度的不同，从而形成明暗相间的衬度像。 X射线衍射技术：布拉格衍射公式。 简述四种薄膜的成份分析方法？ X射线能量色散谱（EDX）；2.电子探针（EPMA）；3. 俄歇电子能谱（AES）；4. X射线光电子谱（XPS）；5. 卢瑟福背散射（RBS）; 6. 二次离子质谱（SIMS）。 任意四种。 薄膜的组织结构可以分为哪四类？ 无定型结构； 2. 多晶结构； 3. 纤维结构； 4. 单晶结构； 列举出连续薄膜形成的三种重要影响机制？ 奥斯瓦尔德吞并机制、熔结机制、原子团迁移机制。 下列描述不属于薄膜组织结构的是 （） （1）无定形结构 （2）多晶结构（3）单晶结构 （4）复合结构 下列仪器设备不能用于薄膜表面形貌分析的是： （1）扫描电子显微镜 （2）原子力显微镜 （3）透射电子显微镜 （4）X射线衍射 B卷： 简述薄膜的生长过模式及主要的控制因素？ 生长模式：岛状生长模式、层状生长模式和岛状-层状生长模式； 控制因素主要分两类：晶格失配度和基片表面（或者基片湿润性或浸润性）； 从沉积速率和沉积温度出发，简述如何形成单晶或者粗大晶粒？如何形成多晶、微晶甚至非晶？请给出简单图示？ 提高温度或降低沉积速率可以形成单晶或者粗大晶粒； 降低温度或提高沉积速率可形成多晶、微晶甚至非晶。 简述基片主要分为哪三大类？简述Si基片的清洗方法？ 单晶基片、多晶基片和非晶基片； 将Si基片分别放入丙酮、酒精和去离子水进行超声清洗；之后放硫酸和磷酸混合液中一段时间，去除基片表面的油污及其它污染物；最后用去离子水清洗； 列出四种薄膜的表面形貌分析方法？ 扫描电子显微镜；原子力显微镜；扫描隧道显微镜；透射电子显微镜； 列出两种薄膜结构分析方法？并简述其中一种的工作原理？ 1. 透射电子显微镜：电子束穿过很薄样品并于样品原子点阵发生相互作用。 2. X射线衍射技术：布拉格衍射公式。 简述薄膜外延生长的概念？影响实现外延生长三个主要因素？ 在单晶基片上延续生长单晶薄膜的方法称为外延生长； 温度、沉积速率、单晶基片；