第三章 电子显分析-TEM2.pptVIP

根据复型像分析试样表面的形貌、结构，应注意复型方法。 同一试块，方法不同，得到复型像和像的强度分布差别很大，根据选用的方法正确解释图像。 复型观察断口比SEM清晰，复型金相组织和光学金相组织之间的相似，使复型电镜分析技术至今为人们所采用。 二、 透射电镜的结构及应用 三、电子衍射 四、透射电子显微分析样品制备 一、电子显微基础 五、电子显微衬度像 第二章 透射电子显微分析 入射电子透射试样后，将与试样内部原子发生相互作用，从而改变其能量及运动方向。 由于试样各部位的组织结构不同，因而透射到荧光屏上的各点强度是不均匀的，这种强度的不均匀分布现象就称为衬度，所获得的电子象称为透射电子衬度象。 五、电子显微衬度像 五、电子显微衬度像 1. 衬度定义 2. 四种衬度 2.1 质厚衬度(Mass-thickness contrast) 2.2 衍射衬度 (Diffraction contrast) 2.3 相位衬度(Phase contrast) 2.4 原子序数衬度(Z contrast) 1. 衬度（contrast）定义 ?衬度（contrast）定义：两个相临部分的电子束强度差 对于光学显微镜，衬度来源是材料各部分反射光的能力不同。 ?当电子逸出试样下表面时，由于试样对电子束的作用，使得透射到荧光屏上的强度是不均匀的，这种强度不均匀的电子象称为衬度象。 透射电镜的四种衬度： 1 散射(质量—厚度)衬度 试样上各部位散射能力不同所形成的衬度。原子序数越大，厚度越大，密度越大，图像颜色越深。适用于非晶或晶粒小的样品。 2 衍射衬度 薄晶（多晶膜）试样电镜图象的衬度，是由与样品内结晶学性质有关的电子衍射特征所决定的。由于晶粒取向不同，不能同时满足布氏衍射。 3 相位差衬度 入射电子波穿过极薄的试样形成的散射波和直接透射波之间产生相位差，经物镜的会聚作用，在像平面上会发生干涉。 4 原子序数衬度： 衬度正比于Z2。 2. 四种衬度 试样厚度100 ?时，振幅衬度为主； 试样厚度100 ?相位衬度为主。 振幅衬度 相位衬度 质量厚度衬度（质厚衬度） 衍射衬度（衍衬） TEM衬度 分辨率20? 分辨率20 ? Z contrast 振幅衬度和相位衬度同时存在 1.1 原子对入射电子的散射： 当从电子枪发射的一束电子沿一定入射方向进入物质内部后，由于与物质的相互作用，使电子的运动方向发生改变，这一过程称为物质对电子的散射。在散射过程中，如果入射电子只改变运动方向，而不发生能量变化，称为弹性散射。如果被散射的入射电子不但发生运动方向的变化，同时还损失能量，则称为非弹性散射。 弹性散射是电子衍射的基础。 1 散射(质量—厚度)衬度 质厚衬度的公式: Z---原子序数 A2. A1 --- 试样原子量 ρ2. ρ1 --- 样品密度 t2, t1 --- 试样厚度 N --- 阿佛加德罗常数 衬度与原子序数Z，密度?，厚度t有关。用小的光阑（θ小）衬度大；降低加速电压V，能提供高衬度 散射衬度象： 样品特征通过对电子散射能力的不同形成的明暗差别象。 1.2 散射衬度象成原理 Z较高、样品较厚区域在屏上显示为较暗区域。 图像上的衬度变化反映了样品相应区域的原子序数和厚度的变化。 The mass and thickness contrast of InxGa12xAs QDs on a GaAs surface. 1 散射(质量—厚度)衬度 2 衍射衬度 3 相位差衬度 五、电子显微衬度像 2. 衍射衬度 晶体样品衬度的主要来源。 存在缺陷，周围晶面发生畸变，这组晶面在样品的不同部位满足布拉格条件程度不同，会产生衬度，得到衍衬像。 明场像: 物镜光栏将衍射束挡掉，只让透射束通过而得到图象衬度的方法称为明场成像，所得的图象称为明场像。 透射电子成像，像清晰。 暗场像: 用物镜光栏挡住透射束及其余衍射束，而只让一束强衍射束通过光栏参与成像的方法，称为暗场成像，所得图象为暗场像。 散射电子成像，像有畸变、分辨率低。 暗场像 明场像 3 相位差衬度 入射电子波穿过极薄的试样形成的散射波和直接透射波之间产生相位差，经物镜的会聚作用，在像平面上会发生干涉。 HRTEM of BaTiFeO natural magnetic multilayers. The highly periodic Fe-ric