实验四石膏牙`离体牙.pptVIP

实验四 石膏牙、离体牙 Ⅲ、Ⅴ类洞形预备 Ⅲ、Ⅴ类洞定义 Ⅲ类洞定义 前牙邻面未累及切角 的龋损所备成的窝洞。 （切牙和尖牙的邻面洞、 邻舌面洞、邻唇面洞） Ⅴ类洞定义 所有牙的颊（唇）舌面 颈1/3处的龋损所备成 的洞。 （前牙和后牙颊舌面的颈 1/3洞） 目的和要求 掌握 G.V.Black Ⅲ 、Ⅴ类洞形特点和制备原则。 掌握 Ⅲ类洞邻面和舌面洞设计。 掌握 Ⅴ类洞外形设计和洞底特点。 实验内容 1.在石膏制上颌中切牙邻舌面雕刻标准Ⅲ类洞形 2.在离体上颌中切牙邻舌面制备标准Ⅲ类洞形。 3.在石膏制上颌中切牙唇面雕刻标准Ⅴ类洞形 4.在离体上颌中切牙唇面制备标准Ⅴ类洞形。 实验器材 Ⅲ、Ⅴ类洞模型 石膏模型 窝洞制备的离体牙标本 口腔综合实习台 石膏制上颌中切牙 离体上颌中切牙 铅笔，雕刻刀，小尺，各型钻针，探针 前牙解剖结构（上颌中切牙为例） 唇面：颈缘为弧形 颈嵴较圆突 近中缘与切缘较直 远中缘略突 近中切角近似直角 远中切角较圆钝 舌面：中央凹陷为舌窝 颈部为舌面隆突 近中边缘嵴 远中边缘嵴 切嵴 窝洞的命名 洞壁： 侧壁：与牙面垂直的洞壁。以所在牙面命名（颊壁、龈壁）。 髓壁：与洞侧壁垂直，位于洞底覆盖牙髓。 轴壁：与牙长轴平行的髓壁。 双面洞： 合面部分：与合面洞相似，与邻面相交的部分开放 邻面部分：侧壁、轴壁、线角、点角 轴髓线角：合面髓壁与邻面轴壁 设计要点 Ⅲ类洞： 邻面洞：呈唇向略大于舌向的梯形 唇壁：与唇面平行 轴壁：与邻面平行 切壁、龈壁：略向舌侧聚拢 唇壁、切壁、龈壁与轴壁垂直， 点线角清楚 舌面洞：切壁：不超过舌面中1/3 龈壁：不损伤舌隆突 鸠尾：位于舌隆突切方，不过舌侧中线，深1mm 鸠尾峡：位于边缘嵴内，宽度为邻面切龈向宽度的 1/3 洞底：达釉牙本质下0.5mm 洞深：唇壁为1mm 设计要点 Ⅴ类洞： 洞形：半圆形，位于牙齿颊面（舌面）的龈1/3处 切壁：止于牙面颈1/3与中1/3交界处 龈壁：近龈缘 近远中壁：止于轴面角处 髓壁：为一弧面，与牙齿唇（颊）舌面弧度一致 洞壁：与洞底垂直，线角清楚 洞底达釉牙本质下0.5mm 洞深：约为1-1.5mm 操作步骤 石膏牙： (Ⅲ类洞) 设计外形： 雕刻：在画线内0.5mm处下刀，先雕刻邻面 洞，深约为 3.0mm，再雕刻舌面洞， 深约4mm 修整洞形：修整洞形，使轴髓线角圆钝，可 在点角处作倒凹固位形。 操作步骤 离体牙： Ⅲ类洞 设计外形：用铅笔在上颌中切牙邻面和舌面画出Ⅲ类洞形 邻面制备：用细裂钻或球钻在舌面边缘嵴的内侧钻入邻面， 向切、龈方向扩展，并向唇面加深，形成唇壁、 切壁及龈壁，完成邻面洞形。 舌面制备：用裂钻或倒锥钻，自邻面洞约1毫米处，按外形 设计向舌面窝扩展形成鸠尾形，注意制备过程中 保持钻针与舌面垂直。 修整洞形：注意邻面洞的梯形，舌面洞形的洞缘不越过中 线，切壁在牙