铕铽共掺稀土聚合物光谱分析及发光性能之我见.docVIP

铕铽共掺稀土聚合物光谱分析及发光性能之我见 　　摘 要：本文探讨了在原位乳液聚合法作用下配置的一种新型的稀土聚合物Euo.5Tbo.5（TTA）3Phen，并且利用红外光谱仪以及电子探针X射线能谱仪等分析了其结构，并研究了其微观的形貌和发光性能，研究表明该稀土聚合物的发光强度与MMA的含量有关，并且具有良好的发光性能。 　　关键词：铕铽共掺稀土聚合物 光谱分析 发光性能 发光强度 原位聚合 　　作为一种新型的材料，稀土聚合材料受到了广泛的关注，成为人们研究的热点，基质对稀土离子发光的影响较小，并且呈窄带发射，因而荧光的寿命长且三基色俱全。但是稀土离子也有自身的局限性，主要是自身的发光效率不高，通常需要解压高吸光系数的配体，在能量转换的情况下，提高其发光性能。为了提高其发光性能，需要合成一种新型的稀土聚合物铕铽共掺稀土聚合物，该稀土聚合物具有发光性能好和热稳定性强的特点，为发光和显示器件的研究提供了理论依据和数据参考。 　　一、铕铽共掺稀土聚合物的实验 　　1.试剂与仪器 　　氯化铕、氯化铽、 噻吩甲酰三氟丙酮（TTA）、邻菲咯啉（Phen）、过硫酸钾（KPS）、十二烷基硫酸钠（SDS）、甲基丙烯酸甲酯MMA（使用前减压蒸馏）等试剂，使用的试剂均为分析纯。 　　扫描电子显示镜、红外光谱仪、热分析仪、荧光光谱仪以及光谱辐射分析仪等。 　　2.Euo.5Tbo.5（TTA）3Phen/PMMA的制备 　　在制备的过程中，需要将EuCl3，TbCl3，TTA，Phen按照一定的比例进行摩尔比反应，比例为1：1：6：2，并且将时间控制在两个小时，然后静置一夜后进行过滤处理，用95%的乙醇进行洗涤沉淀，然后形成干燥的肉色粉末，即Euo.5Tbo.5（TTA）3Phen。在原位乳液聚合法的作用下，将乳化剂、分散剂以及引发剂等与Euo.5Tbo.5（TTA）3Phen进行反应，并加入MMA，反应两个半小时后便可得到Euo.5Tbo.5（TTA）3Phen/PMMA，此外还需要借助去离子水将表面的乳化剂洗去。 　　二、铕铽共掺稀土聚合物的光谱分析和发光性能分析 　　1.微观形貌以及微区成分 　　通过借助扫描隧道电子显示镜和电子探针X射线，可以了解Euo.5Tbo.5（TTA）3Phen/PMMA的微观形貌以及微区成分。资料显示，其结??程度呈现出下降的趋势，这说明Euo.5Tbo.5（TTA）3Phen与PMMA可以结合，其中TTA参与了配位。[1]研究发现，在Euo.5Tbo.5（TTA）3Phen/PMMA中，Eu和Tb的配位比例为1：1。 　　2.荧光光谱分析和性能分析 　　在对荧光光谱的分析中，发现最为活跃的呈现出红色特征，在这一新型的聚合物中，小分子的配体对稀土离子的配位数产生了较大的影响，直接导致了配位数的增加，这就加大了配合物共轭π键向着更广的范围发展，进而增强了其荧光的发射强度。特别是在加入了有机配体Phen 时，导致TTA的三重态能级大大的高于Phen的值，进而实现了两者的协同，促进了分子内部发生能量的传递，并其作为能量的主要供给体，Phen发挥了重要的作用，进而实现了Phen最低三重态能级与稀土的共振发射能级更加的合适和匹配，进而决定了稀土离子的敏化发光。[2]在聚合物中各个部分的配合和作用下，大大的提高了荧光的强度，表现出良好的荧光性能。 　　此此外，Euo.5Tbo.5（TTA）3Phen的产出并没有对发射光谱峰的变化起到一定的影响，也没有出现铕的红色荧光，可见Tb3+的加入并没有引起Eu特征的变化，这是因为前者的激发态能级较高，对配体的能量接收存在一定的困难，这样配体的能量就通过桥联结构到达了中心离子，进而增强了其特征荧光。 　　通过对荧光谱图的分析，发现二者存在很大的相似性，这就充分的表明了聚合物并没有对Euo.5Tbo.5（TTA）3Phen的发光特性进行破坏，基本上保持了其发光特性，并且提高了其纯度，这主要是由于稀土离子是通过电子跃迁的方式进行辐射跃迁的，因此抵抗外界干扰的能力较强，有效的保持了其特征峰。但是在聚合物中，铕与铽离子之间的距离较近，导致了离子之间容易发生荧光猝灭的现象，对稀土离子的荧光强度造成了一定的影响，这样就导致了整体荧光强度的降低。 　　3.MMA对发光性能的影响分析 　　通过对基本数据的分析得出，Euo.5Tbo.5（TTA）3Phen的荧光强度随着MMA的含量的增加呈现出先减弱后增强的趋势，特别是当其含量在2-4毫升时，其荧光强度的减弱最为明显，这是因为如果其含量较少，就会形成包裹在稀土配合物表面的PMMA，致使稀土离子的浓度过大，进而引起离子的聚集而形成离子簇，这种离子簇伴随着能量的传递，这样容易引发猝灭现象，这样就充分说明稀土离子的发光性能受到聚合