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 结晶釉适用的坯体可以是瓷质的、炻器瓷的，也可以是陶质的，不论是什么坯体，都要求坯体的烧成温度应比釉的成熟温度为高（最好是在高于釉的成熟温度2～3个锥号的温度下素烧后再施釉），否则，烧成时坯体中含有大量SiO2、Al2O3等成分熔入釉中，影响釉的析晶性能。 c.烧成制度 为了保证结晶釉有多而大的晶体出现，必须制订相应的烧成制度。结晶釉的烧成范围很窄（一般只有±50℃左右），因此对烧成曲线的掌握要求十分严格。一般10000C以上至烧成温度之间要求快速升温，然后急冷，降至适于晶核形成的温度，此时又重新加热平烧，使晶体发育长大，最后正常冷却。 烧成气氛要用氧化焰，还原气氛对结晶不利，烧成温度一般在1260～13500C之间。 结晶釉因施釉较厚（0.5～2.0毫米），高温粘度小，容易向下流而造成产品粘足。因此要在器形设计等方面多加考虑，防止形成废品。 根据间歇式窑炉实际操作经验，提出“烤、升、平、突、降、保、冷”七字操作法。具体介绍如下： 烤—制品在低温阶段宜稍慢； 升—制品干燥，脱去部分结晶水以后，应尽可能快速升温； 平—接近釉料开始玻化，晶体进行烧结时，略加保温，以便釉和坯体中的物理化学反应进行得充分，为下阶段快烧作准备。 突—尽可能快地突击升到最高烧成温度； 降—快速降温至析晶保温温度； 保—在析晶温度区平稳保温，使晶体充分发育； 冷—析晶完毕，在窑中自然降温，使制品冷却。 结晶釉烧成最关键的是确定最高烧成温度和最佳保温温度。 （3）无光釉 无光釉同乳浊釉、结晶釉一样均属析晶釉，但它们晶粒大小不同。结晶釉中的晶粒大到肉眼可见，乳浊釉中晶体粒度一般为0.2～0.5μm，无光釉的晶体粒度介于二者之间，根据资料介绍，无光釉晶粒大小一般为3～10μm。 无光釉是不透明釉或半失透釉，也就是说，无光釉具有一定的乳浊效果，其乳浊能力取决于结晶相的数量和结晶尺寸的大小。 制备无光釉的方法有以下几种： ①在釉料中加入适当的物质，例如碳酸盐类，在烧成过程中分解，形成包裹在釉里的细小气泡，造成釉的乳浊状态，光线透过釉面产生散射而呈现无光。这种釉外观显得质地蔬松，釉面不够细密。 ②将制品用稀的氢氟酸腐蚀，以降低釉面光泽度。 ③在釉料中加入一定量的难熔物质，主要是高铝粘土及铝的化合物。在烧成过程中，部分铝化合物呈不熔或半熔状态而产生无光。但由于这种铝含量偏高的无光釉是因釉中物质未完全熔融或为半熔融而呈现无光的，因此生成的无光釉釉面粗糙。物理性能也较差。 ④在釉料中加入适量的结晶物质，如氧化锌、氧化钙、氧化镁和氧化钡的化合物等。 无光釉的形成必须具备两个条件： 一 是合适的釉组成； 二 是适当的冷却速度。 对于釉组成来说，应使釉料中存在过剩的容易结晶的金属氧化物，最常使用也是通用的氧化物有氧化锌、氧化钙、氧化镁或氧化钡。 根据结晶相的不同，无光釉主要有以下几种： ①釉中富含SiO2，形成磷石英晶体； ②在釉组分中增加Al2O3的同时，降低SiO2，形成莫来石结晶； ③釉中添加过剩的ZnO，形成硅锌矿结晶； ④釉中添加过剩的TiO2，形成金红石结晶； ⑤釉中添加过剩的碱土金属氧化物，形成硅灰石或Ca、Ba、Mg的铝硅酸盐（钙长石、钡长石等）结晶。 （4）花釉 花釉是指运用两种以上颜色交混在一起，形成各种纹样的釉面装饰。传统的花釉具有两个明显的特征，即有一定的乳浊性和有较大的流动性。花釉复杂多变的颜色和生动的流纹，正是通过不均匀的乳浊性和流动作用而显现出来的。 花釉从本质上可分为红釉系花釉和黑釉系花釉两大系统： 红釉：包括一切以还原焰烧成的铜红系窑变花釉。大都用于瓷器。 黑釉：系列中两个共同的特点，就是都是由铁质黑釉作底层，乳浊釉作面层相结合而成，都是在氧化焰下烧成。因此十分适用于陶器和炻器，这层富有遮盖力的花釉，好比给粗陶制品一层美丽的外衣，使各地的劣质原料有可能制成高档陈设器皿。 近代的花釉仍采用底釉面釉两层组成。一般是用深色釉（黑、褐等）作为底釉，浅色釉或乳浊釉作为面釉。底釉可以利用各地原来使用的深色陶器釉，面釉则可把陶用白釉作为基础釉加入各种着色剂，制成各种颜色釉。 施釉时，底釉一般用浸釉法，釉层厚度约0.6～0.8毫米，面釉要根据产品的不同要求用浸、喷、洒、涂、点、洗、防、刮等多种方法。例如用乳浊釉洒在黑釉上能形成玳瑁斑；局部不需上面釉的地方，可用蜡涂或用剪纸帖上；虎皮的条纹可在施面釉后用竹片刮去几条