光纤光学资料刘德明.pptVIP

2000.3 1 SG 13 /GII presentation 光 纤 光 学 “导光”的古老历史 中国古代烽火台 1854年：英国的廷达尔(Tyndall)就观察到光在水与空气分界面上作全反射以致光随水流而弯曲的现象 1929-1930年：美国的哈纳尔(Hanael)和德国的拉姆(Lamm)先后拉制出石英光纤并用于光线和图象的短距离传输 “光纤之父”----高锟博士 1966年：高锟博士发表他的著名论文“光频介质纤维表面波导”首次明确提出,通过改进制备工艺,减少原材料杂质 , 可使石英光纤的损耗大大下降 , 并有可能拉制出损耗低于20dB/km的光纤,从而使光纤可用于通信之中。 1970年,康宁玻璃公司率先研制成功损耗为20dB/km的石英光纤,取得了重要的技术突破。 爆炸性发展 自一九七０年以后，世界各发达国家对光纤通信的研究倾注了大量的人力与物力，其来势之凶，规模之大、速度之快远远超出了人们的意料之外，从而使光纤通信技术取得了极其惊人的进展。从光纤的衰耗看：七O年：20dB/km七二年： 4 dB/km七四年：1.1dB/km七六年：0.5dB/km七九年：0.2dB/km九O年：0.14dB/km 光纤的损耗已由1000dB/km下降到已经接近石英光纤的理论衰耗极限值0.1dB/km。 致使光纤通信在世界范围内形成了一个充满活力的新兴产业。 光纤通信系统基本结构 光纤通信：21世纪的“信息高速公路” 以光信号作为载波，以光纤为传输媒介 光纤带宽极宽、通信容量极大 光纤重量轻、韧性好、易于敷设 光纤损耗极低, 使无中继通信距离更长 保密性好、绝缘性好 抗干扰、抗辐射、抗腐蚀 成本低、节约金属线材 光纤通信系统的发展 76年，美国在亚特兰大开通了世界上第一个实用化光纤通信系统。码率为45Mb/s，中继距离为10km。80年，多模光纤通信系统商用化（140Mb/s），并着手单模光纤通信系统的现场试验工作。90年，单模光纤通信系统进入商用化阶段（565Mb/s），并着手进行零色散位移光纤和波分复用及相干通信的现场试验，而且陆续制定同步数字体系（SDH）的技术标准。93年，SDH产品开始商用化（622Mb/s 以下）。95年，2.5Gb/s 的SDH产品进入商用化阶段。96年，10Gb/s 的SDH产品进入商用化阶段。97年，采用波分复用技术（WDM）的20Gb/s 和40Gb/s 的SDH产品试验取得重大突破。此外，在光孤子通信、超长波长通信和相干光通信方面也正在取得巨大进展。 2000: “光通信的第一个春天” “光通信的第二个春天” 3G的即将启动。运营商暗自布局，为即将到来的3G运营做准备。 村村通工程的全面铺开也需要大量的光纤光缆及相关通信用产品。 随着用户对带宽需求的提高,技术的突破和新标准的确定以及光纤光缆及相关元器件价格的大幅度下降,FTTH 出现迅速发展的势头。 铜价的迅速飙升进一步加速了“光进铜退”的步伐和F T T x接入的浪潮汹涌。 FTTH光纤到户 三网合一: 高质量生活 光纤技术的应用领域 光波导：约束光波传输的媒介 导波光：受到约束的光波 光波导三要素： “芯 / 包”结构 凸形折射率分布，n1n2 低传输损耗 光纤(光缆) 光纤的分类 通信光纤 非通信光纤 光纤的进一步分类 光纤的进一步分类 光纤的进一步分类 按材料分： 石英、塑料、红外光纤 特种光纤： 保偏(单偏振)光纤；有源光纤；晶体光纤 零/非零色散位移光纤；负色散光纤； 特殊涂层光纤；耐辐射光纤；发光光纤 光纤预制棒工艺：MCVD(Modified Chemical Vapore Deposition) MCVD(改进的化学汽相沉积法)工艺为朗讯等公司所采用的方法。MCVD工艺是一种以氢氧焰热源，发生在高纯度石英玻璃管内进行的气相沉积。 MCVD工艺的化学反应机理为高温氧化。 MCVD工艺是由沉积和成棒两个工艺步骤组成。沉积是获得设计要求的光纤芯折射率分布，成棒是将巳沉积好的空心高纯石英玻璃管熔缩成一根实心的光纤预制棒芯棒。 光纤预制棒工艺：PCVD(Plasma-Activated Vapore Deposition) PCVD 与MCVD 的工艺相似之处是，它们都是在高纯石英玻璃管管内进行气相沉积和高温氧化反应。所不同之处是热源和反应机理， PCVD工艺用的热源是微波，其反应机理为微波加热产生等离子使气体电离。离子重新结合时释放出的热能熔化反应物形成透明的石英玻璃沉积薄层。 PCVD方法可以更为准确地控制光纤的折射率分布。而且沉积效率高, 沉积速度快, 有利于消除SiO 2 层沉积过程中的微观不均匀性, 从而大大降低光纤中散射造成的本征损耗, 适合制备复杂折射率剖